抗蚀剂下层膜形成用组合物和使用其的抗蚀剂图案的形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201480052938.6

申请日：

2014-09-22

公开(公告)号：

CN105579909A

公开(公告)日：

2016-05-11

发明(设计)人：

西田登喜雄大西龙慈藤谷德昌坂本力丸

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G03F711

IPC分类号：

C08G5942

代理机构：

北京市中咨律师事务所 11247

代理人：

孙丽梅;段承恩

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-05-11	公开	公开
2019-11-12	授权	授权
2016-11-23	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101688571219 IPC(主分类):G03F 7/11 专利申请号:2014800529386 申请日:20140922

共 50 条

[1]

抗蚀剂下层膜形成用组合物以及使用该组合物的抗蚀剂图案的形成方法 [P].

境田康志 ;

西田登喜雄 ;

藤谷德昌 ;

坂本力丸 .

中国专利 :CN106233207A ,2016-12-14

[2]

形成抗蚀剂下层膜的组合物及使用该组合物的抗蚀剂图案的形成方法 [P].

大西龙慈 ;

远藤贵文 ;

坂本力丸 .

中国专利 :CN103415809B ,2013-11-27

[3]

抗蚀剂下层膜形成用组合物及使用了该组合物的抗蚀剂图案的形成方法 [P].

清水祥 ;

水落龙太 ;

若山浩之 ;

染谷安信 .

日本专利 :CN112789556B ,2025-02-11

[4]

抗蚀剂下层膜形成用组合物及使用了该组合物的抗蚀剂图案的形成方法 [P].

清水祥 ;

水落龙太 ;

若山浩之 ;

染谷安信 .

中国专利 :CN112789556A ,2021-05-11

[5]

抗蚀剂下层膜形成用组合物 [P].

境田康志 ;

高濑显司 ;

岸冈高广 ;

坂本力丸 .

中国专利 :CN109073977B ,2018-12-21

[6]

形成抗蚀剂下层膜的组合物和抗蚀剂图案的形成方法 [P].

广井佳臣 ;

石田智久 ;

远藤贵文 .

中国专利 :CN101884015B ,2010-11-10

[7]

抗蚀剂下层膜形成用组成物、图案形成方法、及抗蚀剂下层膜形成方法 [P].

小林直贵 ;

石绵健汰 ;

郡大佑 .

日本专利 :CN118330991A ,2024-07-12

[8]

抗蚀剂下层膜形成用组成物、图案形成方法、及抗蚀剂下层膜形成方法 [P].

石绵健汰 ;

郡大佑 ;

矢野俊治 ;

小林直贵 ;

新井田惠介 .

日本专利 :CN119270583A ,2025-01-07

[9]

抗蚀剂下层膜形成用组合物和图案形成方法 [P].

丰川郁宏 ;

中藤慎也 ;

若松刚史 .

中国专利 :CN104603691B ,2015-05-06

[10]

抗蚀剂下层膜形成用组合物、抗蚀剂图案形成方法、抗蚀剂下层膜图案的形成方法及图案形成方法 [P].

衣幡庆一 ;

竹下优 .

日本专利 :CN118511128A ,2024-08-16

← 1 2 3 4 5 →