采用包括光酸产生剂的抗反射涂层组合物的图案形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410858451.9

申请日：

2014-12-30

公开(公告)号：

CN105223774B

公开(公告)日：

2016-01-06

发明(设计)人：

姜智薰李惠元李承昱李淑林载峰

申请人：

申请人地址：

韩国忠清南道

IPC主分类号：

G03F700

IPC分类号：

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

陈哲锋

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-01-25	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101699763255 IPC(主分类):G03F 7/00 专利申请号:2014108584519 申请日:20141230
2019-12-20	授权	授权
2016-01-06	公开	公开

共 50 条

[1]

可显影底部抗反射涂层组合物以及使用其的图案形成方法 [P].

陈光荣 ;

S·霍尔梅斯 ;

黄武松 ;

R·邝惠玲 ;

刘森 .

中国专利 :CN104335079B ,2015-02-04

[2]

用于使用包含光酸产生剂的抗反射涂料组合物形成图案的方法 [P].

李晶真 ;

安载润 ;

沈载桓 ;

林载峰 ;

E·阿卡德 ;

金明烈 .

美国专利 :CN112285998B ,2025-01-03

[3]

用于使用包含光酸产生剂的抗反射涂料组合物形成图案的方法 [P].

李晶真 ;

安载润 ;

沈载桓 ;

林载峰 ;

E·阿卡德 ;

金明烈 .

中国专利 :CN112285998A ,2021-01-29

[4]

光酸产生剂、光致抗蚀剂组合物、及图案形成方法 [P].

E·阿卡德 .

中国专利 :CN114690553A ,2022-07-01

[5]

光酸产生剂、光致抗蚀剂组合物及图案形成方法 [P].

T·马兰戈尼 ;

E·阿卡德 ;

P·拉博姆 ;

李明琦 ;

J·F·卡梅伦 .

美国专利 :CN117417367A ,2024-01-19

[6]

图案形成方法和光致抗蚀剂图案外涂层组合物 [P].

侯希森 ;

刘聪 ;

I·考尔 .

中国专利 :CN108803236B ,2018-11-13

[7]

顶部抗反射涂层组合物、形成图案的方法以及顶部抗反射涂层 [P].

仓本胜利 ;

小林政一 ;

秋山靖 .

中国专利 :CN101568991B ,2009-10-28

[8]

用于光致抗蚀剂组合物的抗反射涂层 [P].

I·穆库洛奇 ;

R·R·达米尔 ;

A·J·科尔索 ;

丁术李 ;

D·L·杜哈姆 ;

卢炳宏 ;

康鸣 ;

D·N·克哈纳 .

中国专利 :CN1111760C ,1999-10-20

[9]

新颖光酸产生剂、光致抗蚀剂组合物及光致抗蚀剂图案形成方法 [P].

金宰贤 ;

许明铉 ;

金贞植 ;

俞敏子 ;

李衡根 ;

池灿爀 ;

张景勋 ;

河政敏 .

韩国专利 :CN118401893A ,2024-07-26

[10]

光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法 [P].

杨立柏 ;

张庆裕 .

中国专利 :CN113238457A ,2021-08-10

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