物理气相沉积系统与应用其的物理气相沉积方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510859862.4

申请日：

2015-11-30

公开(公告)号：

CN105887026A

公开(公告)日：

2016-08-24

发明(设计)人：

纪志坚苏鸿文李佩璇

申请人：

申请人地址：

中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路八号

IPC主分类号：

C23C1434

IPC分类号：

代理机构：

北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006

代理人：

徐金国

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-10-15	授权	授权
2016-09-21	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101679346853 IPC(主分类):C23C 14/34 专利申请号:2015108598624 申请日:20151130
2016-08-24	公开	公开

共 50 条

[1]

物理气相沉积系统 [P].

吴孝哲 ;

蔡文立 ;

李名言 .

中国专利 :CN101319305A ,2008-12-10

[2]

物理气相沉积装置及物理气相沉积方法 [P].

汤本敦史 ;

丹羽直毅 ;

广木富士男 ;

山本刚久 .

中国专利 :CN102131951A ,2011-07-20

[3]

物理气相沉积设备和物理气相沉积方法 [P].

李扬德 ;

卢昆 ;

高宽 .

中国专利 :CN107723675A ,2018-02-23

[4]

物理气相沉积系统与处理 [P].

肖文 ;

维布什·金达尔 ;

桑杰·巴特 .

中国专利 :CN113439130A ,2021-09-24

[5]

物理气相沉积系统与处理 [P].

肖文 ;

维布什·金达尔 ;

桑杰·巴特 .

美国专利 :CN113439130B ,2024-03-08

[6]

物理气相沉积设备及物理气相沉积工艺 [P].

边国栋 .

中国专利 :CN103572211B ,2014-02-12

[7]

物理气相沉积线圈的处理方法及物理气相沉积线圈结构 [P].

聂佳相 .

中国专利 :CN101956156A ,2011-01-26

[8]

物理气相沉积设备、物理气相沉积工艺的控制方法 [P].

杨帆 .

中国专利 :CN118854231B ,2025-11-11

[9]

物理气相沉积设备、物理气相沉积工艺的控制方法 [P].

杨帆 .

中国专利 :CN118854231A ,2024-10-29

[10]

用于物理气相沉积的沉积环和物理气相沉积设备 [P].

陈杰锋 ;

张辉 .

中国专利 :CN108950510A ,2018-12-07

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