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高蚀刻速率无残留酸性铝蚀刻液及其制备工艺
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201210379067.1
申请日
:
2012-10-09
公开(公告)号
:
CN102925896A
公开(公告)日
:
2013-02-13
发明(设计)人
:
戈士勇
申请人
:
申请人地址
:
214423 江苏省无锡市江阴市周庄镇长青路2号
IPC主分类号
:
C23F120
IPC分类号
:
代理机构
:
江阴市同盛专利事务所 32210
代理人
:
唐纫兰;曾丹
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2013-03-20
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101415523505 IPC(主分类):C23F 1/20 专利申请号:2012103790671 申请日:20121009
2016-03-09
授权
授权
2013-02-13
公开
公开
共 50 条
[1]
高蚀刻速率无残留酸性铝蚀刻液生产装置
[P].
戈士勇
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
戈士勇
.
中国专利
:CN204369992U
,2015-06-03
[2]
高蚀刻速率无残留酸性铝蚀刻液生产装置
[P].
梁小朝
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
梁小朝
;
连杰
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
连杰
;
姚浩川
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
姚浩川
;
黄德新
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
黄德新
.
中国专利
:CN210787187U
,2020-06-19
[3]
一种高蚀刻速率及选择比的铝蚀刻液及其制备工艺
[P].
梁小朝
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
梁小朝
;
连杰
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
连杰
;
姚浩川
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
姚浩川
;
黄德新
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
黄德新
.
中国专利
:CN110528004A
,2019-12-03
[4]
一种酸性铜蚀刻液及其制备工艺
[P].
戈士勇
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
戈士勇
.
中国专利
:CN102925894A
,2013-02-13
[5]
一种三氯化铁系ITO蚀刻液及其制备方法
[P].
戈士勇
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
戈士勇
.
中国专利
:CN102732253A
,2012-10-17
[6]
一种新型酸性钼铝钼蚀刻液及其制备工艺
[P].
戈士勇
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
戈士勇
;
沈翠芬
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
沈翠芬
;
盛建伟
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
盛建伟
;
袁晓蕾
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
袁晓蕾
.
中国专利
:CN103255417A
,2013-08-21
[7]
一种新型酸性钼铝蚀刻液和制备工艺
[P].
戈士勇
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
戈士勇
.
中国专利
:CN102181867A
,2011-09-14
[8]
无残留的银蚀刻液及其制备方法、蚀刻方法和应用
[P].
张伟明
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
上海盛剑微电子有限公司
上海盛剑微电子有限公司
张伟明
;
刘明辉
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
上海盛剑微电子有限公司
上海盛剑微电子有限公司
刘明辉
;
聂航
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
上海盛剑微电子有限公司
上海盛剑微电子有限公司
聂航
;
衡京
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
上海盛剑微电子有限公司
上海盛剑微电子有限公司
衡京
.
中国专利
:CN119040893A
,2024-11-29
[9]
酸性高纯钼铝蚀刻液制备装置
[P].
沈翠芬
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
沈翠芬
;
戈士勇
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
戈士勇
;
盛建伟
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
盛建伟
.
中国专利
:CN202519334U
,2012-11-07
[10]
一种酸性蚀刻液添加剂及酸性蚀刻液
[P].
侯延辉
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
侯延辉
.
中国专利
:CN107747094B
,2018-03-02
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