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用于金属的化学机械抛光的浆料组合物以及使用其的抛光方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200880111053.3
申请日
:
2008-01-21
公开(公告)号
:
CN101821354A
公开(公告)日
:
2010-09-01
发明(设计)人
:
周霍摩
金元来
卢钟一
李仁庆
李泰永
申请人
:
申请人地址
:
韩国庆尚北道
IPC主分类号
:
C09K314
IPC分类号
:
代理机构
:
北京康信知识产权代理有限责任公司 11240
代理人
:
吴贵明;张英
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2010-09-01
公开
公开
2014-07-02
授权
授权
2010-10-20
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101009083892 IPC(主分类):C09K 3/14 专利申请号:2008801110533 申请日:20080121
共 50 条
[1]
化学机械抛光用浆料以及使用其的基板的抛光方法
[P].
竹越穣
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竹越穣
;
加藤充
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加藤充
;
冈本知大
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冈本知大
;
加藤晋哉
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加藤晋哉
.
中国专利
:CN102666760B
,2012-09-12
[2]
化学机械抛光组合物及使用其的化学机械抛光方法
[P].
北村启
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北村启
;
并木明久
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并木明久
;
增田刚
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增田刚
;
松村义之
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松村义之
.
中国专利
:CN114829521A
,2022-07-29
[3]
化学机械抛光组合物及使用其的化学机械抛光方法
[P].
北村启
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机构:
CMC材料株式会社
CMC材料株式会社
北村启
;
并木明久
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机构:
CMC材料株式会社
CMC材料株式会社
并木明久
;
增田刚
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机构:
CMC材料株式会社
CMC材料株式会社
增田刚
;
松村义之
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机构:
CMC材料株式会社
CMC材料株式会社
松村义之
.
日本专利
:CN114829521B
,2024-04-09
[4]
用于化学机械抛光的浆料组合物及抛光方法
[P].
李泰永
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李泰永
;
李仁庆
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李仁庆
;
崔炳镐
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崔炳镐
;
朴容淳
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朴容淳
.
中国专利
:CN101333421A
,2008-12-31
[5]
用于化学机械抛光的浆料组合物及抛光方法
[P].
李泰永
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李泰永
;
李仁庆
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李仁庆
;
崔炳镐
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崔炳镐
;
朴容淳
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朴容淳
.
中国专利
:CN101333420A
,2008-12-31
[6]
用于化学机械抛光的浆料组合物
[P].
黄珍淑
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黄珍淑
;
孔铉九
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孔铉九
;
黄寅卨
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黄寅卨
.
中国专利
:CN113308197A
,2021-08-27
[7]
用于化学机械抛光的浆料组合物
[P].
朴惠贞
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朴惠贞
;
金宰贤
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金宰贤
;
朴锺大
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朴锺大
;
李敏键
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李敏键
;
申宗哲
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申宗哲
;
陈成勋
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陈成勋
.
中国专利
:CN109153889B
,2019-01-04
[8]
用于化学机械抛光的浆料组合物
[P].
朴尚铉
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朴尚铉
;
李晓山
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李晓山
;
许元己
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许元己
;
金廷润
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金廷润
;
黄晙夏
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黄晙夏
;
权昌吉
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权昌吉
;
李性表
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李性表
.
中国专利
:CN110872473A
,2020-03-10
[9]
用于化学机械抛光的浆料组合物
[P].
文斗植
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文斗植
;
朴尚铉
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朴尚铉
;
尹普彦
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尹普彦
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金镐永
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金镐永
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朴世廷
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朴世廷
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李载鹤
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李载鹤
;
黄珍明
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黄珍明
.
中国专利
:CN108690505A
,2018-10-23
[10]
化学机械抛光浆料和使用该浆料的化学机械抛光方法
[P].
李在东
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李在东
;
尹普彦
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尹普彦
;
韩镛弼
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韩镛弼
.
中国专利
:CN1288722C
,2003-09-10
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