用于化学机械抛光的浆料组合物及抛光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810085567.8

申请日：

2008-03-19

公开(公告)号：

CN101333420A

公开(公告)日：

2008-12-31

发明(设计)人：

李泰永李仁庆崔炳镐朴容淳

申请人：

申请人地址：

韩国庆尚北道

IPC主分类号：

C09G118

IPC分类号：

C09G102 H01L21304

代理机构：

北京润平知识产权代理有限公司

代理人：

周建秋;王凤桐

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-12-31	公开	公开
2009-02-25	实质审查的生效	实质审查的生效
2012-10-31	授权	授权

共 50 条

[1]

用于化学机械抛光的浆料组合物及抛光方法 [P].

李泰永 ;

李仁庆 ;

崔炳镐 ;

朴容淳 .

中国专利 :CN101333421A ,2008-12-31

[2]

化学机械抛光组合物及抛光方法 [P].

刘子龙 ;

冉运 ;

黄维 ;

肖桂林 .

中国专利 :CN118562394A ,2024-08-30

[3]

用于化学机械抛光的浆料组合物 [P].

黄珍淑 ;

孔铉九 ;

黄寅卨 .

中国专利 :CN113308197A ,2021-08-27

[4]

用于化学机械抛光的浆料和化学机械抛光方法 [P].

加藤充 ;

冈本知大 ;

加藤晋哉 .

中国专利 :CN104471684A ,2015-03-25

[5]

用于化学机械抛光的浆料组合物 [P].

朴尚铉 ;

李晓山 ;

许元己 ;

金廷润 ;

黄晙夏 ;

权昌吉 ;

李性表 .

中国专利 :CN110872473A ,2020-03-10

[6]

用于边缘抛光的化学机械抛光组合物 [P].

洪丹燕 ;

田露 ;

NP·叶日博纳 ;

贾仁合 .

中国专利 :CN116254059B ,2024-01-23

[7]

用于化学机械抛光的组合物 [P].

李吉成 ;

金硕珍 ;

李在锡 ;

张斗远 .

中国专利 :CN1296049A ,2001-05-23

[8]

化学机械抛光用含水浆液组合物及化学机械抛光方法 [P].

申东穆 ;

崔银美 ;

曹昇范 ;

河贤哲 .

中国专利 :CN101679810B ,2010-03-24

[9]

化学机械抛光组合物及其抛光方法 [P].

彭路希 ;

田露 ;

贾仁合 .

中国专利 :CN117511415A ,2024-02-06

[10]

用于半导体浅沟隔离加工的化学机械抛光浆料组合物 [P].

南浩成 ;

李镇瑞 ;

安贵龙 .

中国专利 :CN1938394A ,2007-03-28

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