用于化学机械抛光的浆料和化学机械抛光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201380037343.9

申请日：

2013-05-27

公开(公告)号：

CN104471684A

公开(公告)日：

2015-03-25

发明(设计)人：

加藤充冈本知大加藤晋哉

申请人：

申请人地址：

日本冈山县

IPC主分类号：

H01L21304

IPC分类号：

B24B3700 C09K314

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

邢岳

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-01-23	授权	授权
2015-03-25	公开	公开
2015-04-22	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101607372823 IPC(主分类):H01L 21/304 专利申请号:2013800373439 申请日:20130527

共 50 条

[1]

化学机械抛光浆料和使用该浆料的化学机械抛光方法 [P].

李在东 ;

尹普彦 ;

韩镛弼 .

中国专利 :CN1288722C ,2003-09-10

[2]

化学机械抛光装置和化学机械抛光方法 [P].

铃木三惠子 ;

土屋泰章 .

中国专利 :CN1098746C ,1999-09-01

[3]

化学机械抛光方法和化学机械抛光设备 [P].

邵群 ;

王庆玲 .

中国专利 :CN103035504B ,2013-04-10

[4]

化学机械抛光垫和化学机械抛光方法 [P].

西村秀树 ;

清水崇文 ;

栗山敬祐 ;

辻昭卫 .

中国专利 :CN1990183A ,2007-07-04

[5]

化学机械抛光设备和化学机械抛光方法 [P].

唐强 .

中国专利 :CN108115553A ,2018-06-05

[6]

化学机械抛光衬垫和化学机械抛光方法 [P].

田野裕之 ;

西村秀树 ;

志保浩司 .

中国专利 :CN1757483A ,2006-04-12

[7]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

志保浩司 ;

田野裕之 ;

保坂幸生 ;

西村秀树 .

中国专利 :CN1864929A ,2006-11-22

[8]

钨化学机械抛光浆料 [P].

M·斯腾德 ;

A·德雷克斯凯 ;

B·布伦南 .

美国专利 :CN118510855A ,2024-08-16

[9]

化学机械抛光用浆料 [P].

崔银美 ;

申东穆 ;

曹升范 .

中国专利 :CN102414293B ,2012-04-11

[10]

化学机械抛光设备及化学机械抛光方法 [P].

朱慧珑 ;

钟汇才 ;

梁擎擎 ;

赵超 .

中国专利 :CN102756323A ,2012-10-31

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