化学机械抛光浆料和使用该浆料的化学机械抛光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN03103408.X

申请日：

2003-01-27

公开(公告)号：

CN1288722C

公开(公告)日：

2003-09-10

发明(设计)人：

李在东尹普彦韩镛弼

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道水原市

IPC主分类号：

H01L21304

IPC分类号：

H01L21302 C09K314 C09K1300 C09G102

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司

代理人：

王海川;樊卫民

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-04-11	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101219109900 IPC(主分类):H01L 21/304 专利号:ZL03103408X 申请日:20030127 授权公告日:20061206 终止日期:20110127
2006-12-06	授权	授权
2003-09-10	公开	公开

共 50 条

[1]

用于化学机械抛光的浆料和化学机械抛光方法 [P].

加藤充 ;

冈本知大 ;

加藤晋哉 .

中国专利 :CN104471684A ,2015-03-25

[2]

化学/机械抛光浆和使用它的化学机械抛光方法 [P].

李钟元 ;

洪昌基 ;

李在东 .

中国专利 :CN1475540A ,2004-02-18

[3]

钨化学机械抛光浆料 [P].

M·斯腾德 ;

A·德雷克斯凯 ;

B·布伦南 .

美国专利 :CN118510855A ,2024-08-16

[4]

化学机械抛光用浆料 [P].

崔银美 ;

申东穆 ;

曹升范 .

中国专利 :CN102414293B ,2012-04-11

[5]

一种化学机械抛光浆料及化学机械抛光装置和方法 [P].

李敏 ;

王昭 ;

黄绍龙 ;

景希玮 ;

张珂 ;

王振扬 ;

路新春 .

中国专利 :CN119220180A ,2024-12-31

[6]

化学机械抛光装置和化学机械抛光方法 [P].

铃木三惠子 ;

土屋泰章 .

中国专利 :CN1098746C ,1999-09-01

[7]

化学机械抛光方法和化学机械抛光设备 [P].

邵群 ;

王庆玲 .

中国专利 :CN103035504B ,2013-04-10

[8]

化学机械抛光垫和化学机械抛光方法 [P].

西村秀树 ;

清水崇文 ;

栗山敬祐 ;

辻昭卫 .

中国专利 :CN1990183A ,2007-07-04

[9]

化学机械抛光设备和化学机械抛光方法 [P].

唐强 .

中国专利 :CN108115553A ,2018-06-05

[10]

化学机械抛光衬垫和化学机械抛光方法 [P].

田野裕之 ;

西村秀树 ;

志保浩司 .

中国专利 :CN1757483A ,2006-04-12

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