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钨化学机械抛光浆料
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202280088361.9
申请日
:
2022-11-29
公开(公告)号
:
CN118510855A
公开(公告)日
:
2024-08-16
发明(设计)人
:
M·斯腾德
A·德雷克斯凯
B·布伦南
申请人
:
弗萨姆材料美国有限责任公司
申请人地址
:
美国亚利桑那州
IPC主分类号
:
C09G1/02
IPC分类号
:
H01L21/321
H01L21/67
代理机构
:
北京市金杜律师事务所 11256
代理人
:
吴亦华;徐志明
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-08-16
公开
公开
2024-09-27
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):C09G 1/02申请日:20221129
共 50 条
[1]
钨的化学机械抛光方法
[P].
何蔺蓁
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何蔺蓁
;
蔡薇雯
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蔡薇雯
;
李振彬
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李振彬
.
中国专利
:CN108372459B
,2018-08-07
[2]
化学机械抛光浆料和使用该浆料的化学机械抛光方法
[P].
李在东
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李在东
;
尹普彦
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尹普彦
;
韩镛弼
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韩镛弼
.
中国专利
:CN1288722C
,2003-09-10
[3]
化学机械抛光用浆料
[P].
崔银美
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崔银美
;
申东穆
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申东穆
;
曹升范
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曹升范
.
中国专利
:CN102414293B
,2012-04-11
[4]
用于化学机械抛光的浆料和化学机械抛光方法
[P].
加藤充
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加藤充
;
冈本知大
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冈本知大
;
加藤晋哉
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加藤晋哉
.
中国专利
:CN104471684A
,2015-03-25
[5]
用于钨化学机械抛光的组合物
[P].
S.格伦宾
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S.格伦宾
;
J.戴萨德
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J.戴萨德
;
富琳
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富琳
;
W.沃德
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W.沃德
;
G.怀特纳
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G.怀特纳
.
中国专利
:CN106103638B
,2016-11-09
[6]
钨化学机械抛光中的凹陷减少
[P].
M·施滕德尔
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M·施滕德尔
;
B·J·卢
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B·J·卢
;
史晓波
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史晓波
.
中国专利
:CN105885699A
,2016-08-24
[7]
用于钨化学机械抛光的组合物
[P].
S.格伦宾
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S.格伦宾
;
J.戴萨德
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J.戴萨德
;
富琳
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富琳
;
W.沃德
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W.沃德
;
G.怀特纳
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G.怀特纳
.
中国专利
:CN106103639A
,2016-11-09
[8]
钨化学机械抛光组合物
[P].
富琳
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富琳
;
S.格拉宾
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S.格拉宾
;
J.戴萨德
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J.戴萨德
;
李常怡
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李常怡
.
中国专利
:CN106661430B
,2017-05-10
[9]
钨的化学机械抛光方法
[P].
J·D·彭
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J·D·彭
;
何蔺蓁
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何蔺蓁
;
S·苏
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S·苏
.
中国专利
:CN109382756B
,2019-02-26
[10]
化学机械抛光浆料组合物及使用其抛光钨图案晶片的方法
[P].
李义郞
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李义郞
;
具仑永
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具仑永
;
金元中
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金元中
;
金亨默
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金亨默
;
朴泰远
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朴泰远
;
李锺元
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李锺元
;
赵娟振
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赵娟振
.
中国专利
:CN113969106A
,2022-01-25
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