化学机械抛光用浆料

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201080017681.2

申请日：

2010-04-22

公开(公告)号：

CN102414293B

公开(公告)日：

2012-04-11

发明(设计)人：

崔银美申东穆曹升范

申请人：

申请人地址：

韩国首尔

IPC主分类号：

C09K314

IPC分类号：

代理机构：

北京北翔知识产权代理有限公司 11285

代理人：

钟守期;吴晓萍

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-05-23	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101250941212 IPC(主分类):C09K 3/14 专利申请号:2010800176812 申请日:20100422
2014-02-19	授权	授权
2012-04-11	公开	公开

共 50 条

[1]

化学机械抛光用含水浆液组合物及化学机械抛光方法 [P].

申东穆 ;

崔银美 ;

曹昇范 ;

河贤哲 .

中国专利 :CN101679810B ,2010-03-24

[2]

化学机械抛光浆料和使用该浆料的化学机械抛光方法 [P].

李在东 ;

尹普彦 ;

韩镛弼 .

中国专利 :CN1288722C ,2003-09-10

[3]

铜的化学机械抛光浆料 [P].

荆建芬 ;

宋伟红 ;

顾元 ;

徐春 ;

宋鹰 .

中国专利 :CN1955239A ,2007-05-02

[4]

钨化学机械抛光浆料 [P].

M·斯腾德 ;

A·德雷克斯凯 ;

B·布伦南 .

美国专利 :CN118510855A ,2024-08-16

[5]

化学机械抛光用的选择性浆料 [P].

卞锦儒 .

中国专利 :CN100378188C ,2006-06-28

[6]

用于化学机械抛光的浆料和化学机械抛光方法 [P].

加藤充 ;

冈本知大 ;

加藤晋哉 .

中国专利 :CN104471684A ,2015-03-25

[7]

金属化学机械抛光浆料 [P].

张建 ;

荆建芬 ;

宋凯 ;

蔡鑫元 ;

杨俊雅 ;

潘依君 .

中国专利 :CN106929858A ,2017-07-07

[8]

化学机械抛光用研磨剂 [P].

K·C·卡迪恩 ;

A·D·菲勒 .

中国专利 :CN1216410C ,2003-08-20

[9]

铂化学机械抛光用的溶液 [P].

李宇镇 .

中国专利 :CN1475604A ,2004-02-18

[10]

锗的化学机械抛光 [P].

蔡智斌 ;

叶铭智 ;

G.怀特纳 ;

吕龙岱 .

中国专利 :CN106574171A ,2017-04-19

← 1 2 3 4 5 →