化学机械抛光用研磨剂

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN00819223.5

申请日：

2000-11-20

公开(公告)号：

CN1216410C

公开(公告)日：

2003-08-20

发明(设计)人：

K·C·卡迪恩 A·D·菲勒

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

H01L21321

IPC分类号：

C09G102

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

卢新华;郭广迅

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2005-08-24	授权	授权
2003-08-20	公开	公开
2003-11-05	实质审查的生效	实质审查的生效
2011-02-02	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101035895507 IPC(主分类):H01L 21/321 专利号:ZL008192235 申请日:20001120 授权公告日:20050824 终止日期:20091221

共 50 条

[1]

化学机械抛光用浆料 [P].

崔银美 ;

申东穆 ;

曹升范 .

中国专利 :CN102414293B ,2012-04-11

[2]

一种化学机械抛光研磨剂的制备方法及化学机械抛光方法 [P].

杨鹏 ;

周文斌 ;

张磊 .

中国专利 :CN111087930A ,2020-05-01

[3]

含新型研磨剂的化学机械抛光组合物 [P].

A.W.海恩斯 ;

K.朗格 ;

S.格鲁宾 ;

R.A.伊万诺夫 ;

K.P.多克里 ;

B.佩特罗 ;

B.斯尼德 ;

G.克里洛瓦 .

美国专利 :CN115298276B ,2024-07-30

[4]

化学机械抛光研磨剂及其制造方法、以及基板的研磨方法 [P].

高桥光人 .

中国专利 :CN106795422B ,2017-05-31

[5]

用于化学机械抛光的二氧化铈研磨剂 [P].

白云揆 ;

朴在勤 ;

金相均 ;

加藤健夫 ;

朴容国 .

中国专利 :CN1826397A ,2006-08-30

[6]

混合研磨剂型的钨化学机械抛光组合物 [P].

S.格拉姆宾 ;

J.戴萨德 .

中国专利 :CN106414650A ,2017-02-15

[7]

混合研磨剂型的钨化学机械抛光组合物 [P].

W.沃德 ;

G.怀特纳 ;

S.格拉姆宾 ;

J.戴萨德 .

中国专利 :CN106415796B ,2017-02-15

[8]

化学机械抛光剂及化学机械抛光工艺 [P].

刘聪 ;

董信国 .

中国专利 :CN118978865A ,2024-11-19

[9]

化学机械抛光研磨垫 [P].

方精训 ;

王海军 .

中国专利 :CN1981990A ,2007-06-20

[10]

化学机械抛光研磨液输送系统及化学机械抛光研磨设备 [P].

路新春 ;

潘燕 ;

王同庆 ;

沈攀 ;

何永勇 .

中国专利 :CN102240976A ,2011-11-16

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