化学机械抛光研磨液输送系统及化学机械抛光研磨设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110131936.4

申请日：

2011-05-20

公开(公告)号：

CN102240976A

公开(公告)日：

2011-11-16

发明(设计)人：

路新春潘燕王同庆沈攀何永勇

申请人：

申请人地址：

100084 北京市海淀区100084-82信箱

IPC主分类号：

B24B5702

IPC分类号：

B24B3702 H01L21304

代理机构：

北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201

代理人：

宋合成

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-11-16	公开	公开
2014-01-29	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101688309260 IPC(主分类):B24B 57/02 专利申请号:2011101319364 申请公布日:20111116
2012-02-08	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101180314913 IPC(主分类):B24B 57/02 专利申请号:2011101319364 申请日:20110520

共 50 条

[1]

化学机械抛光研磨垫 [P].

方精训 ;

王海军 .

中国专利 :CN1981990A ,2007-06-20

[2]

化学机械抛光设备及化学机械抛光方法 [P].

朱慧珑 ;

钟汇才 ;

梁擎擎 ;

赵超 .

中国专利 :CN102756323A ,2012-10-31

[3]

化学机械抛光设备及化学机械抛光方法 [P].

李洪阳 ;

陈映松 ;

许振杰 ;

李长坤 ;

王科 .

中国专利 :CN120134207B ,2025-08-19

[4]

化学机械抛光设备及化学机械抛光方法 [P].

李洪阳 ;

陈映松 ;

许振杰 ;

李长坤 ;

王科 .

中国专利 :CN120862551A ,2025-10-31

[5]

化学机械抛光设备及化学机械抛光方法 [P].

李洪阳 ;

陈映松 ;

许振杰 ;

李长坤 ;

王科 .

中国专利 :CN120134207A ,2025-06-13

[6]

化学机械抛光方法和化学机械抛光设备 [P].

邵群 ;

王庆玲 .

中国专利 :CN103035504B ,2013-04-10

[7]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

志保浩司 ;

田野裕之 ;

保坂幸生 ;

西村秀树 .

中国专利 :CN1864929A ,2006-11-22

[8]

化学机械抛光设备和化学机械抛光方法 [P].

唐强 .

中国专利 :CN108115553A ,2018-06-05

[9]

化学机械抛光设备与化学机械抛光工艺 [P].

胡俊汀 ;

谢祖怡 ;

曾子育 ;

郭永杰 ;

白弘吉 .

中国专利 :CN1986157A ,2007-06-27

[10]

化学机械抛光装置及化学机械抛光的方法 [P].

陈枫 .

中国专利 :CN103624673B ,2014-03-12

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