锗的化学机械抛光

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201580045242.5

申请日：

2015-06-17

公开(公告)号：

CN106574171A

公开(公告)日：

2017-04-19

发明(设计)人：

蔡智斌叶铭智 G.怀特纳吕龙岱

申请人：

申请人地址：

美国伊利诺伊州

IPC主分类号：

C09K314

IPC分类号：

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

邢岳

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-04-19	公开	公开
2019-03-19	授权	授权
2021-09-07	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C09K 3/14 变更事项:专利权人变更前:嘉柏微电子材料股份公司变更后:CMC材料股份有限公司变更事项:地址变更前:美国伊利诺伊州变更后:美国伊利诺伊州
2022-06-07	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C09K 3/14 申请日:20150617 授权公告日:20190319 终止日期:20210617
2017-05-17	实质审查的生效	实质审查的生效专利申请号:2015800452425 申请日:20150617 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101719982588 IPC(主分类):C09K 3/14

共 50 条

[1]

锗‑锑‑碲化学机械抛光浆料 [P].

M.斯滕德 ;

G.怀特纳 ;

C.W.南 .

中国专利 :CN104428386B ,2015-03-18

[2]

用于化学机械抛光的浆料和化学机械抛光方法 [P].

加藤充 ;

冈本知大 ;

加藤晋哉 .

中国专利 :CN104471684A ,2015-03-25

[3]

化学机械抛光用浆料 [P].

崔银美 ;

申东穆 ;

曹升范 .

中国专利 :CN102414293B ,2012-04-11

[4]

化学机械抛光组合物及其在钨化学机械抛光中的应用 [P].

王永东 ;

卞鹏程 ;

王瑞芹 ;

徐贺 ;

李国庆 ;

王庆伟 ;

朱林君 .

中国专利 :CN118406439A ,2024-07-30

[5]

化学机械抛光组合物及其在钨化学机械抛光中的应用 [P].

王永东 ;

卞鹏程 ;

王瑞芹 ;

徐贺 ;

李国庆 ;

王庆伟 ;

朱林君 .

中国专利 :CN118406439B ,2024-10-18

[6]

化学机械抛光浆液 [P].

杨逸涵 ;

刘文成 ;

何明彻 ;

陆明辉 ;

张松源 .

中国专利 :CN105862044A ,2016-08-17

[7]

化学机械抛光浆料和使用该浆料的化学机械抛光方法 [P].

李在东 ;

尹普彦 ;

韩镛弼 .

中国专利 :CN1288722C ,2003-09-10

[8]

化学机械抛光组合物、清洗组合物、化学机械抛光方法和清洗方法 [P].

北村启 ;

增田刚 ;

松村义之 ;

并木明久 ;

齐藤健 .

中国专利 :CN114258421A ,2022-03-29

[9]

钨化学机械抛光浆料 [P].

M·斯腾德 ;

A·德雷克斯凯 ;

B·布伦南 .

美国专利 :CN118510855A ,2024-08-16

[10]

化学机械抛光方法 [P].

B·钱 ;

M·W·格鲁特 ;

M·F·索南夏因 .

中国专利 :CN105215837B ,2016-01-06

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