化学/机械抛光浆和使用它的化学机械抛光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN02150501.2

申请日：

2002-11-11

公开(公告)号：

CN1475540A

公开(公告)日：

2004-02-18

发明(设计)人：

李钟元洪昌基李在东

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道

IPC主分类号：

C09G102

IPC分类号：

H01L21304

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司

代理人：

谢丽娜;谷惠敏

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2004-02-18	公开	公开
2009-05-06	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回
2005-10-19	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

化学机械抛光浆料和使用该浆料的化学机械抛光方法 [P].

李在东 ;

尹普彦 ;

韩镛弼 .

中国专利 :CN1288722C ,2003-09-10

[2]

化学机械抛光装置和化学机械抛光方法 [P].

铃木三惠子 ;

土屋泰章 .

中国专利 :CN1098746C ,1999-09-01

[3]

化学机械抛光方法和化学机械抛光设备 [P].

邵群 ;

王庆玲 .

中国专利 :CN103035504B ,2013-04-10

[4]

化学机械抛光垫和化学机械抛光方法 [P].

西村秀树 ;

清水崇文 ;

栗山敬祐 ;

辻昭卫 .

中国专利 :CN1990183A ,2007-07-04

[5]

化学机械抛光设备和化学机械抛光方法 [P].

唐强 .

中国专利 :CN108115553A ,2018-06-05

[6]

化学机械抛光衬垫和化学机械抛光方法 [P].

田野裕之 ;

西村秀树 ;

志保浩司 .

中国专利 :CN1757483A ,2006-04-12

[7]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

志保浩司 ;

田野裕之 ;

保坂幸生 ;

西村秀树 .

中国专利 :CN1864929A ,2006-11-22

[8]

化学机械抛光设备及化学机械抛光方法 [P].

朱慧珑 ;

钟汇才 ;

梁擎擎 ;

赵超 .

中国专利 :CN102756323A ,2012-10-31

[9]

化学机械抛光垫以及化学机械抛光方法 [P].

志保浩司 ;

保坂幸生 ;

长谷川亨 ;

川桥信夫 .

中国专利 :CN100352605C ,2005-03-09

[10]

化学机械抛光设备及化学机械抛光方法 [P].

李洪阳 ;

陈映松 ;

许振杰 ;

李长坤 ;

王科 .

中国专利 :CN120134207B ,2025-08-19

← 1 2 3 4 5 →