用于半导体浅沟隔离加工的化学机械抛光浆料组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200580009957.1

申请日：

2005-03-24

公开(公告)号：

CN1938394A

公开(公告)日：

2007-03-28

发明(设计)人：

南浩成李镇瑞安贵龙

申请人：

申请人地址：

韩国首尔市

IPC主分类号：

C09K314

IPC分类号：

代理机构：

北京三幸商标专利事务所

代理人：

刘激扬

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-05-23	实质审查的生效	实质审查的生效
2009-11-18	专利权的视为放弃	专利权的视为放弃
2007-03-28	公开	公开

共 50 条

[1]

用于化学机械抛光的浆料组合物及抛光方法 [P].

李泰永 ;

李仁庆 ;

崔炳镐 ;

朴容淳 .

中国专利 :CN101333421A ,2008-12-31

[2]

用于化学机械抛光的浆料组合物及抛光方法 [P].

李泰永 ;

李仁庆 ;

崔炳镐 ;

朴容淳 .

中国专利 :CN101333420A ,2008-12-31

[3]

浅槽隔离化学机械抛光浆料的制备工艺 [P].

黄素琴 ;

陈雅园 ;

杜鑫 .

中国专利 :CN120118625A ,2025-06-10

[4]

用于化学机械抛光的浆料组合物 [P].

朴尚铉 ;

李晓山 ;

许元己 ;

金廷润 ;

黄晙夏 ;

权昌吉 ;

李性表 .

中国专利 :CN110872473A ,2020-03-10

[5]

用于化学机械抛光的浆料组合物 [P].

文斗植 ;

朴尚铉 ;

尹普彦 ;

金镐永 ;

朴世廷 ;

李载鹤 ;

黄珍明 .

中国专利 :CN108690505A ,2018-10-23

[6]

用于化学机械抛光的组合物 [P].

李吉成 ;

金硕珍 ;

李在锡 ;

张斗远 .

中国专利 :CN1296049A ,2001-05-23

[7]

用于化学机械抛光的浆料组合物 [P].

黄珍淑 ;

孔铉九 ;

黄寅卨 .

中国专利 :CN113308197A ,2021-08-27

[8]

用于化学机械抛光的浆料组合物 [P].

朴惠贞 ;

金宰贤 ;

朴锺大 ;

李敏键 ;

申宗哲 ;

陈成勋 .

中国专利 :CN109153889B ,2019-01-04

[9]

用于化学机械抛光的浆料和化学机械抛光方法 [P].

加藤充 ;

冈本知大 ;

加藤晋哉 .

中国专利 :CN104471684A ,2015-03-25

[10]

用于浅沟槽隔离应用的化学机械抛光组合物 [P].

S.布罗斯南 .

中国专利 :CN111868189B ,2020-10-30

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