浸没光刻设备的液体控制系统及方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201811627086.5

申请日：

2018-12-28

公开(公告)号：

CN111381448B

公开(公告)日：

2020-07-07

发明(设计)人：

赵丹平罗晋刘剑杨志斌

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张东路1525号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

上海思捷知识产权代理有限公司 31295

代理人：

王宏婧

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-07-31	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20181228
2020-07-07	公开	公开
2021-05-25	授权	授权

共 50 条

[1]

涉及浸没光刻技术的方法和浸没光刻设备 [P].

B·斯蒂夫克尔克 ;

R·F·德格拉夫 ;

J·C·H·马尔肯斯 ;

M·贝克尔斯 ;

P·P·J·伯克文斯 ;

D·L·安斯陶特兹 .

中国专利 :CN102156390B ,2011-08-17

[2]

涉及浸没光刻技术的方法和浸没光刻设备 [P].

B·斯蒂夫克尔克 ;

R·F·德格拉夫 ;

J·C·H·马尔肯斯 ;

M·贝克尔斯 ;

P·P·J·伯克文斯 ;

D·L·安斯陶特兹 .

中国专利 :CN101408733A ,2009-04-15

[3]

晶片承载系统和浸没光刻设备 [P].

赵丹平 ;

魏巍 ;

罗晋 .

中国专利 :CN110658683A ,2020-01-07

[4]

浸没光刻设备和器件制造方法 [P].

M·H·A·里恩德尔 ;

S·N·L·多恩德尔斯 ;

C·瓦格恩尔 ;

R·H·M·考蒂 .

中国专利 :CN101464636A ,2009-06-24

[5]

浸没光刻用真空系统 [P].

A·J·哈法姆 ;

P·J·谢希特 ;

P·A·斯托克曼 .

中国专利 :CN1997943A ,2007-07-11

[6]

浸没光刻用真空系统 [P].

A·J·哈法姆 ;

P·J·谢希特 ;

P·A·斯托克曼 .

中国专利 :CN101794081A ,2010-08-04

[7]

用于光刻设备的流体处理结构及浸没光刻设备 [P].

P·范德艾登 ;

C·M·诺普斯 ;

T·W·波莱 ;

F·L·寇肯斯 ;

G·塔娜萨 ;

R·H·M·考蒂 ;

K·库依皮尔斯 ;

H·S·布登贝格 ;

G·L·加托比焦 ;

E·范弗利特 ;

N·坦凯特 ;

M·J·H·弗雷肯 ;

J·L·范埃尔沃 ;

M·M·C·F·托因尼森 .

中国专利 :CN113156772A ,2021-07-23

[8]

工件台装置和浸没光刻设备 [P].

赵丹平 ;

魏巍 ;

罗晋 ;

刘伟 .

中国专利 :CN110095943A ,2019-08-06

[9]

控制光刻设备的方法和器件制造方法、用于光刻设备的控制系统及光刻设备 [P].

E·M·赫尔斯埃博 ;

P·A·J·蒂内曼斯 ;

R·布林克霍夫 ;

P·J·赫利斯 ;

J·K·卢卡什 ;

L·J·P·维尔希斯 ;

I·M·A·范唐克拉尔 ;

F·G·C·比基恩 .

中国专利 :CN108369382B ,2018-08-03

[10]

衬底台组件、浸没光刻设备以及器件制造方法 [P].

J·G·C·昆尼 ;

J·H·W·雅各布斯 ;

M·霍本 ;

T·S·M·劳伦特 ;

F·J·J·范鲍克斯台尔 ;

S·C·R·德尔克斯 ;

S·N·L·唐德斯 .

中国专利 :CN102955372B ,2013-03-06

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