涉及浸没光刻技术的方法和浸没光刻设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810168934.0

申请日：

2008-09-27

公开(公告)号：

CN101408733A

公开(公告)日：

2009-04-15

发明(设计)人：

B·斯蒂夫克尔克 R·F·德格拉夫 J·C·H·马尔肯斯 M·贝克尔斯 P·P·J·伯克文斯 D·L·安斯陶特兹

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

王波波

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-06-10	实质审查的生效	实质审查的生效
2013-02-27	授权	授权
2009-04-15	公开	公开

共 50 条

[1]

涉及浸没光刻技术的方法和浸没光刻设备 [P].

B·斯蒂夫克尔克 ;

R·F·德格拉夫 ;

J·C·H·马尔肯斯 ;

M·贝克尔斯 ;

P·P·J·伯克文斯 ;

D·L·安斯陶特兹 .

中国专利 :CN102156390B ,2011-08-17

[2]

浸没光刻设备和器件制造方法 [P].

M·H·A·里恩德尔 ;

S·N·L·多恩德尔斯 ;

C·瓦格恩尔 ;

R·H·M·考蒂 .

中国专利 :CN101464636A ,2009-06-24

[3]

工件台装置和浸没光刻设备 [P].

赵丹平 ;

魏巍 ;

罗晋 ;

刘伟 .

中国专利 :CN110095943A ,2019-08-06

[4]

晶片承载系统和浸没光刻设备 [P].

赵丹平 ;

魏巍 ;

罗晋 .

中国专利 :CN110658683A ,2020-01-07

[5]

用于光刻设备的流体处理结构及浸没光刻设备 [P].

P·范德艾登 ;

C·M·诺普斯 ;

T·W·波莱 ;

F·L·寇肯斯 ;

G·塔娜萨 ;

R·H·M·考蒂 ;

K·库依皮尔斯 ;

H·S·布登贝格 ;

G·L·加托比焦 ;

E·范弗利特 ;

N·坦凯特 ;

M·J·H·弗雷肯 ;

J·L·范埃尔沃 ;

M·M·C·F·托因尼森 .

中国专利 :CN113156772A ,2021-07-23

[6]

浸没光刻设备的液体控制系统及方法 [P].

赵丹平 ;

罗晋 ;

刘剑 ;

杨志斌 .

中国专利 :CN111381448B ,2020-07-07

[7]

衬底台组件、浸没光刻设备以及器件制造方法 [P].

J·G·C·昆尼 ;

J·H·W·雅各布斯 ;

M·霍本 ;

T·S·M·劳伦特 ;

F·J·J·范鲍克斯台尔 ;

S·C·R·德尔克斯 ;

S·N·L·唐德斯 .

中国专利 :CN102955372B ,2013-03-06

[8]

清洁设备和浸没式光刻设备 [P].

A·M·C·P·德仲 ;

H·詹森 ;

M·H·A·里德尔斯 ;

P·布洛姆 ;

R·H·G·克莱默 ;

M·范普特恩 ;

A·德格拉夫 .

中国专利 :CN101458459A ,2009-06-17

[9]

浸没式光刻设备和器件制造方法 [P].

T·W·波勒特 ;

J·J·M·巴塞曼斯 ;

W·J·鲍曼 ;

H·H·A·勒姆蓬斯 ;

T·M·莫德曼 ;

C·M·洛普斯 ;

B·斯密兹 ;

K·斯蒂芬斯 ;

R·范德汉姆 .

中国专利 :CN106537257B ,2017-03-22

[10]

浸没设备及光刻系统 [P].

刘欢 .

中国专利 :CN119717402A ,2025-03-28

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