浸没光刻设备和器件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810185625.4

申请日：

2008-12-17

公开(公告)号：

CN101464636A

公开(公告)日：

2009-06-24

发明(设计)人：

M·H·A·里恩德尔 S·N·L·多恩德尔斯 C·瓦格恩尔 R·H·M·考蒂

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

王波波

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-06-24	公开	公开
2011-05-04	授权	授权
2009-08-19	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

涉及浸没光刻技术的方法和浸没光刻设备 [P].

B·斯蒂夫克尔克 ;

R·F·德格拉夫 ;

J·C·H·马尔肯斯 ;

M·贝克尔斯 ;

P·P·J·伯克文斯 ;

D·L·安斯陶特兹 .

中国专利 :CN102156390B ,2011-08-17

[2]

涉及浸没光刻技术的方法和浸没光刻设备 [P].

B·斯蒂夫克尔克 ;

R·F·德格拉夫 ;

J·C·H·马尔肯斯 ;

M·贝克尔斯 ;

P·P·J·伯克文斯 ;

D·L·安斯陶特兹 .

中国专利 :CN101408733A ,2009-04-15

[3]

浸没式光刻设备和器件制造方法 [P].

C·德麦特森阿尔 ;

R·C·昆斯特 ;

P·P·J·博克文斯 ;

M·G·E·斯尼德斯 ;

J·M·W·范德温凯尔 ;

G·M·M·考克兰 .

中国专利 :CN102129179A ,2011-07-20

[4]

浸没式光刻设备和器件制造方法 [P].

T·W·波勒特 ;

J·J·M·巴塞曼斯 ;

W·J·鲍曼 ;

H·H·A·勒姆蓬斯 ;

T·M·莫德曼 ;

C·M·洛普斯 ;

B·斯密兹 ;

K·斯蒂芬斯 ;

R·范德汉姆 .

中国专利 :CN106537257B ,2017-03-22

[5]

衬底台组件、浸没光刻设备以及器件制造方法 [P].

J·G·C·昆尼 ;

J·H·W·雅各布斯 ;

M·霍本 ;

T·S·M·劳伦特 ;

F·J·J·范鲍克斯台尔 ;

S·C·R·德尔克斯 ;

S·N·L·唐德斯 .

中国专利 :CN102955372B ,2013-03-06

[6]

器件制造方法和浸没式光刻设备 [P].

C·J·G·范德敦根 ;

N·F·寇普拉斯 ;

M·H·A·里恩德尔 ;

P·M·M·里伯艾格特斯 ;

J·C·H·穆肯斯 ;

E·H·E·C·奥姆梅伦 ;

M·贝克尔斯 ;

R·莫尔曼 ;

C·D·格乌斯塔 ;

D·M·H·菲利普斯 ;

R·J·P·沃黑斯 ;

P·马尔德 ;

E·范维利特 .

中国专利 :CN102226869A ,2011-10-26

[7]

工件台装置和浸没光刻设备 [P].

赵丹平 ;

魏巍 ;

罗晋 ;

刘伟 .

中国专利 :CN110095943A ,2019-08-06

[8]

晶片承载系统和浸没光刻设备 [P].

赵丹平 ;

魏巍 ;

罗晋 .

中国专利 :CN110658683A ,2020-01-07

[9]

光刻设备和器件制造方法 [P].

约瑟夫·玛丽亚·芬德斯 .

中国专利 :CN101598902B ,2009-12-09

[10]

光刻设备和器件制造方法 [P].

R·T·P·考姆彭 ;

M·M·P·A·沃梅尤恩 ;

A·B·杰尤恩克 ;

E·R·鲁普斯卓 ;

J·J·奥腾斯 ;

P·斯密特斯 ;

H·J·M·凡阿毕伦 ;

A·A·梅尤恩迪杰克斯 ;

M·霍本 ;

R·W·A·H·理纳尔斯 .

中国专利 :CN101713929A ,2010-05-26

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