器件制造方法和浸没式光刻设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110166731.X

申请日：

2009-04-16

公开(公告)号：

CN102226869A

公开(公告)日：

2011-10-26

发明(设计)人：

C·J·G·范德敦根 N·F·寇普拉斯 M·H·A·里恩德尔 P·M·M·里伯艾格特斯 J·C·H·穆肯斯 E·H·E·C·奥姆梅伦 M·贝克尔斯 R·莫尔曼 C·D·格乌斯塔 D·M·H·菲利普斯 R·J·P·沃黑斯 P·马尔德 E·范维利特

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

吴敬莲

法律状态：

公开

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

浸没式光刻设备和器件制造方法 [P].

T·W·波勒特 ;

J·J·M·巴塞曼斯 ;

W·J·鲍曼 ;

H·H·A·勒姆蓬斯 ;

T·M·莫德曼 ;

C·M·洛普斯 ;

B·斯密兹 ;

K·斯蒂芬斯 ;

R·范德汉姆 .

中国专利 :CN106537257B ,2017-03-22

[2]

浸没式光刻设备和器件制造方法 [P].

C·德麦特森阿尔 ;

R·C·昆斯特 ;

P·P·J·博克文斯 ;

M·G·E·斯尼德斯 ;

J·M·W·范德温凯尔 ;

G·M·M·考克兰 .

中国专利 :CN102129179A ,2011-07-20

[3]

浸没光刻设备和器件制造方法 [P].

M·H·A·里恩德尔 ;

S·N·L·多恩德尔斯 ;

C·瓦格恩尔 ;

R·H·M·考蒂 .

中国专利 :CN101464636A ,2009-06-24

[4]

浸没式光刻设备、干燥装置、浸没量测设备和器件制造方法 [P].

M·瑞鹏 ;

N·R·凯姆波 ;

J·P·M·B·沃麦乌伦 ;

D·J·M·迪莱克斯 ;

D·M·H·飞利浦斯 ;

A·J·范普腾 .

中国专利 :CN101576718B ,2009-11-11

[5]

流体处理装置、浸没式光刻设备以及器件制造方法 [P].

E·H·E·C·尤姆麦伦 ;

K·斯蒂芬斯 ;

兼子毅之 ;

G·M·M·考克恩 .

中国专利 :CN101859072B ,2010-10-13

[6]

光刻设备和器件制造方法 [P].

约瑟夫·玛丽亚·芬德斯 .

中国专利 :CN101598902B ,2009-12-09

[7]

光刻设备和器件制造方法 [P].

R·T·P·考姆彭 ;

M·M·P·A·沃梅尤恩 ;

A·B·杰尤恩克 ;

E·R·鲁普斯卓 ;

J·J·奥腾斯 ;

P·斯密特斯 ;

H·J·M·凡阿毕伦 ;

A·A·梅尤恩迪杰克斯 ;

M·霍本 ;

R·W·A·H·理纳尔斯 .

中国专利 :CN101713929A ,2010-05-26

[8]

光刻设备和器件制造方法 [P].

A·J·布里克 ;

J·J·M·巴塞曼斯 ;

M·M·T·M·迪伊里奇斯 ;

C·瓦格纳 ;

L·赖齐科夫 ;

S·Y·斯米诺夫 ;

K·Z·特鲁斯特 .

中国专利 :CN101598904B ,2009-12-09

[9]

光刻设备和器件制造方法 [P].

埃尔温·范茨韦特 ;

彼得·德亚格尔 ;

约翰内斯·昂伍李 ;

汉瑞克·德曼 .

中国专利 :CN103238113A ,2013-08-07

[10]

光刻设备和器件制造方法 [P].

H·巴特勒 ;

M·J·沃奥尔戴尔冬克 ;

M·W·J·E·威吉克曼斯 .

中国专利 :CN110268332A ,2019-09-20

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法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-10-26	公开	公开
2011-12-07	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101149909551 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:201110166731X 申请日:20090416
2013-08-28	授权	授权