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一种基于图形密度的工艺模型建模与修正方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201610606942.3
申请日
:
2016-07-28
公开(公告)号
:
CN106294935B
公开(公告)日
:
2017-01-04
发明(设计)人
:
何大权
魏芳
赵月兴
倪念慈
朱骏
申请人
:
申请人地址
:
201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号
IPC主分类号
:
G06F1750
IPC分类号
:
代理机构
:
上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275
代理人
:
吴世华;陈慧弘
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2017-02-01
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101700800979 IPC(主分类):G06F 17/50 专利申请号:2016106069423 申请日:20160728
2017-01-04
公开
公开
2019-08-20
授权
授权
共 50 条
[1]
一种基于工件点云模型的蒙皮工艺模型修正方法
[P].
刘闯
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刘闯
;
孙立帅
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孙立帅
;
赵志勇
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赵志勇
;
李帅
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李帅
.
中国专利
:CN110688709B
,2020-01-14
[2]
一种基于湍流建模机器学习的湍流模型修正方法
[P].
黄玥
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黄玥
;
栾振业
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栾振业
;
蒋撼宇
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蒋撼宇
.
中国专利
:CN113536709A
,2021-10-22
[3]
基于实测大气密度的短时大气模型修正方法
[P].
杜凯
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杜凯
;
张荣之
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张荣之
;
王西京
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王西京
;
杨永安
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杨永安
;
许可
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许可
;
袁勇
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袁勇
;
田涛
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田涛
.
中国专利
:CN107132155A
,2017-09-05
[4]
光学临近修正模型的建模方法及光学临近修正方法
[P].
王雷
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机构:
上海华虹宏力半导体制造有限公司
上海华虹宏力半导体制造有限公司
王雷
.
中国专利
:CN115598922B
,2025-03-18
[5]
光学临近修正模型的建模方法及光学临近修正方法
[P].
王雷
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王雷
.
中国专利
:CN115598922A
,2023-01-13
[6]
一种基于正向建模的复杂目标散射模型修正方法及系统
[P].
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机构:
何思远
;
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机构:
李婉聪
;
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机构:
张云华
;
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机构:
胡进
;
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机构:
边志丹
.
中国专利
:CN118429593A
,2024-08-02
[7]
一种基于隐式建模技术的冠脉血管模型修正方法
[P].
洪清启
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洪清启
.
中国专利
:CN108969097A
,2018-12-11
[8]
一种基于工件三维扫描的拉弯工艺模型修正方法
[P].
王俊彪
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王俊彪
;
董伟
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董伟
;
刘闯
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刘闯
;
徐龙
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徐龙
;
李仁花
论文数:
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0
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李仁花
.
中国专利
:CN103412978B
,2013-11-27
[9]
基于逆向建模的模型修正方法、装置、设备和存储介质
[P].
欧清扬
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欧清扬
;
蒋念娟
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蒋念娟
;
吕江波
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吕江波
;
沈小勇
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沈小勇
.
中国专利
:CN114677468B
,2022-06-28
[10]
光学临近效应修正工艺模型的建模方法
[P].
陈福成
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陈福成
;
袁春雨
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袁春雨
.
中国专利
:CN102902154A
,2013-01-30
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