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一种便于清洁的半导体制造设备
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201922116890.3
申请日：
2019-12-02
公开(公告)号：
CN210668296U
公开(公告)日：
2020-06-02
发明(设计)人：
张志平
申请人：
申请人地址：
441000 湖北省襄阳市高新区追日路9号汉北工业园1幢3楼
IPC主分类号：
H01L2167
IPC分类号：
代理机构：
六安众信知识产权代理事务所(普通合伙) 34123
代理人：
鲁晓瑞
法律状态：
专利权的终止
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-11-11 | 专利权的终止 | 未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20191202 授权公告日:20200602 终止日期:20211202 |
| 2020-06-02 | 授权 | 授权 |