一种基板处理液的存储装置和基板后处理设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201910399296.1

申请日：

2019-05-14

公开(公告)号：

CN110197801A

公开(公告)日：

2019-09-03

发明(设计)人：

赵德文李长坤路新春

申请人：

申请人地址：

100084 北京市海淀区清华园1号

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

代理机构：

北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250

代理人：

张建纲

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-09-27	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20190514

共 50 条

[1]

一种基板处理液的存储装置和基板后处理设备 [P].

赵德文 ;

李长坤 ;

路新春 .

中国专利 :CN210535627U ,2020-05-15

[2]

一种基板后处理装置 [P].

王同庆 ;

王剑 ;

许振杰 ;

路新春 .

中国专利 :CN210092034U ,2020-02-18

[3]

一种基板后处理装置和方法 [P].

王同庆 ;

王剑 ;

许振杰 ;

路新春 .

中国专利 :CN110993524A ,2020-04-10

[4]

一种基板后处理装置和方法 [P].

王同庆 ;

王剑 ;

许振杰 ;

路新春 .

中国专利 :CN110993524B ,2025-11-21

[5]

基板液处理装置、基板液处理方法和存储介质 [P].

吉田博司 ;

石井佑树 .

日本专利 :CN110858556B ,2024-11-22

[6]

基板液处理装置、基板液处理方法和存储介质 [P].

小佐井一树 ;

甲斐義广 ;

五师源太郎 ;

小宫洋司 ;

藤本诚也 ;

大塚贵久 .

中国专利 :CN108292599B ,2018-07-17

[7]

基板液处理装置、基板液处理方法和存储介质 [P].

吉田博司 ;

石井佑树 .

中国专利 :CN110858556A ,2020-03-03

[8]

基板液处理装置和基板液处理方法 [P].

小原隆宪 .

日本专利 :CN117461118A ,2024-01-26

[9]

基板液处理方法和基板液处理装置 [P].

小佐井一树 ;

大塚贵久 ;

篠原和義 ;

铃木启之 ;

八谷洋介 ;

东博之 .

中国专利 :CN107591345A ,2018-01-16

[10]

基板液处理装置和基板液处理方法 [P].

高木康弘 ;

小宫洋司 ;

信国力 ;

佐竹圭吾 ;

穴本笃史 .

中国专利 :CN104637841B ,2015-05-20

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