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一种半导体原料清洗装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202020265563.4
申请日
:
2020-03-06
公开(公告)号
:
CN212370663U
公开(公告)日
:
2021-01-19
发明(设计)人
:
文新艳
付华秀
申请人
:
申请人地址
:
510000 广东省广州市番禺区化龙镇塘头村青梅岗
IPC主分类号
:
B08B302
IPC分类号
:
B08B1300
代理机构
:
深圳市兰锋盛世知识产权代理有限公司 44504
代理人
:
罗炳锋
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-01-19
授权
授权
共 50 条
[1]
半导体原料清洗装置
[P].
焦雪梅
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焦雪梅
;
马英俊
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马英俊
;
林泉
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林泉
;
赵静敏
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赵静敏
;
权盼
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权盼
;
赵邦超
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赵邦超
;
孟杰
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孟杰
;
杨微
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杨微
;
郑粉桃
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郑粉桃
;
闻爱清
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闻爱清
.
中国专利
:CN213856016U
,2021-08-03
[2]
一种半导体原料的腐蚀清洗装置
[P].
陆海凤
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陆海凤
;
柯尊斌
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柯尊斌
;
王卿伟
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王卿伟
;
乔印彬
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乔印彬
.
中国专利
:CN213495346U
,2021-06-22
[3]
半导体衬底清洗装置
[P].
陈勇
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陈勇
;
朱刘
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朱刘
;
刘留
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刘留
.
中国专利
:CN205303427U
,2016-06-08
[4]
一种半导体晶圆清洗装置
[P].
刘安全
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刘安全
;
王鹤
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王鹤
.
中国专利
:CN207503923U
,2018-06-15
[5]
一种半导体光刻板清洗装置
[P].
韩波
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韩波
.
中国专利
:CN212597355U
,2021-02-26
[6]
一种半导体激光芯片清洗装置
[P].
李明欣
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李明欣
;
宋云菲
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宋云菲
;
李宁
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李宁
.
中国专利
:CN218414497U
,2023-01-31
[7]
一种半导体加工清洗除尘装置
[P].
李永强
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李永强
.
中国专利
:CN217017589U
,2022-07-22
[8]
一种半导体晶片的清洗装置
[P].
李杰
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机构:
梯牧半导体科技(上海)有限公司
梯牧半导体科技(上海)有限公司
李杰
;
殷军伟
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机构:
梯牧半导体科技(上海)有限公司
梯牧半导体科技(上海)有限公司
殷军伟
.
中国专利
:CN220461579U
,2024-02-09
[9]
一种半导体元件用清洗装置
[P].
罗艳玲
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罗艳玲
;
龚秀友
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龚秀友
;
王敬
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王敬
.
中国专利
:CN210936181U
,2020-07-07
[10]
一种半导体清洗装置
[P].
尤红权
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机构:
南通国尚精密机械有限公司
南通国尚精密机械有限公司
尤红权
;
邓光伟
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机构:
南通国尚精密机械有限公司
南通国尚精密机械有限公司
邓光伟
;
朱志松
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机构:
南通国尚精密机械有限公司
南通国尚精密机械有限公司
朱志松
;
陈磊
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机构:
南通国尚精密机械有限公司
南通国尚精密机械有限公司
陈磊
.
中国专利
:CN221157906U
,2024-06-18
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