一种改善光刻胶线条边缘粗糙度的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710702042.3

申请日：

2017-08-16

公开(公告)号：

CN107527797B

公开(公告)日：

2017-12-29

发明(设计)人：

许开东

申请人：

申请人地址：

221300 江苏省徐州市邳州市经济开发区辽河西路8号

IPC主分类号：

H01L21027

IPC分类号：

H01L2167

代理机构：

北京睿智保诚专利代理事务所(普通合伙) 11732

代理人：

周新楣

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-01-26	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/027 申请日:20170816
2022-04-05	授权	授权
2017-12-29	公开	公开

共 50 条

[1]

改善光刻胶表面粗糙度的方法 [P].

成智国 ;

耿文练 .

中国专利 :CN109062010A ,2018-12-21

[2]

一种具有低边缘粗糙度的ArF光刻胶 [P].

马潇 ;

陈鹏 ;

卢汉林 ;

夏力 ;

顾大公 ;

岳力挽 ;

张宇 ;

陈阳 ;

许从应 ;

毛智彪 ;

周浩杰 .

中国专利 :CN114326305A ,2022-04-12

[3]

改善光刻线条粗糙度的方法 [P].

王岳 ;

孙珊珊 ;

周红宇 ;

李海涛 .

中国专利 :CN120540010A ,2025-08-26

[4]

降低EUV光刻胶图案的线边缘粗糙度的方法 [P].

王新科 ;

沈泽青 ;

苏米特·辛格·罗伊 ;

阿卜希吉特·巴苏·马尔利克 ;

巴斯卡尔·乔蒂·布雅 ;

唐杰丛 ;

约翰·苏迪约诺 ;

马克·萨利 .

美国专利 :CN119422226A ,2025-02-11

[5]

改善半导体工艺中光刻图案线条边缘粗糙度的方法 [P].

李亮 ;

沈忆华 ;

涂火金 ;

宋化龙 ;

史运泽 .

中国专利 :CN102136415B ,2011-07-27

[6]

一种低边缘粗糙度的ArF光刻胶树脂及其制备方法 [P].

尹航 ;

白千慧 ;

李培源 ;

毛智彪 ;

许从应 .

中国专利 :CN119775481A ,2025-04-08

[7]

降低线条粗糙度的光刻方法 [P].

孟令款 ;

贺晓彬 ;

李春龙 .

中国专利 :CN103777466A ,2014-05-07

[8]

降低线条粗糙度的混合光刻方法 [P].

孟令款 ;

李春龙 ;

贺晓彬 ;

李俊峰 ;

闫江 .

中国专利 :CN103676493B ,2014-03-26

[9]

减小光刻胶图形线宽粗糙度的方法 [P].

张海洋 ;

张城龙 .

中国专利 :CN104345568A ,2015-02-11

[10]

用于控制光刻胶线宽粗糙度的方法及设备 [P].

B·吴 ;

A·库玛 .

中国专利 :CN103180932A ,2013-06-26

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