改善光刻胶表面粗糙度的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201811060348.4

申请日：

2018-09-12

公开(公告)号：

CN109062010A

公开(公告)日：

2018-12-21

发明(设计)人：

成智国耿文练

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区康桥东路298号1幢1060室

IPC主分类号：

G03F716

IPC分类号：

H01L21027

代理机构：

上海浦一知识产权代理有限公司 31211

代理人：

郭四华

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-01-15	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/16 申请日:20180912
2022-04-08	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G03F 7/16 申请公布日:20181221
2018-12-21	公开	公开

共 50 条

[1]

一种改善光刻胶线条边缘粗糙度的方法 [P].

许开东 .

中国专利 :CN107527797B ,2017-12-29

[2]

减小光刻胶图形线宽粗糙度的方法 [P].

张海洋 ;

张城龙 .

中国专利 :CN104345568A ,2015-02-11

[3]

用于控制光刻胶线宽粗糙度的方法及设备 [P].

B·吴 ;

A·库玛 .

中国专利 :CN103180932A ,2013-06-26

[4]

改善钢管表面粗糙度的方法 [P].

曹献龙 ;

王焕新 ;

王世杰 .

中国专利 :CN111500963A ,2020-08-07

[5]

降低电子束光刻时光刻胶粗糙度的方法 [P].

孟令款 ;

贺晓彬 ;

李春龙 .

中国专利 :CN103676491A ,2014-03-26

[6]

改善光刻线条粗糙度的方法 [P].

王岳 ;

孙珊珊 ;

周红宇 ;

李海涛 .

中国专利 :CN120540010A ,2025-08-26

[7]

一种低边缘粗糙度的ArF光刻胶树脂及其制备方法 [P].

尹航 ;

白千慧 ;

李培源 ;

毛智彪 ;

许从应 .

中国专利 :CN119775481A ,2025-04-08

[8]

降低EUV光刻胶图案的线边缘粗糙度的方法 [P].

王新科 ;

沈泽青 ;

苏米特·辛格·罗伊 ;

阿卜希吉特·巴苏·马尔利克 ;

巴斯卡尔·乔蒂·布雅 ;

唐杰丛 ;

约翰·苏迪约诺 ;

马克·萨利 .

美国专利 :CN119422226A ,2025-02-11

[9]

改善晶片的表面粗糙度的工艺 [P].

E·内雷 ;

E·阿雷纳 ;

L·埃卡尔诺 .

中国专利 :CN1879204B ,2006-12-13

[10]

光刻胶去除方法及光刻胶重制方法 [P].

邱靖尧 ;

谢玟茜 ;

刘立尧 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110581065A ,2019-12-17

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