降低EUV光刻胶图案的线边缘粗糙度的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202380052463.X

申请日：

2023-07-19

公开(公告)号：

CN119422226A

公开(公告)日：

2025-02-11

发明(设计)人：

王新科沈泽青苏米特·辛格·罗伊阿卜希吉特·巴苏·马尔利克巴斯卡尔·乔蒂·布雅唐杰丛约翰·苏迪约诺马克·萨利

申请人：

应用材料公司

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

H01L21/02

IPC分类号：

H01L21/033 G03F7/11

代理机构：

北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006

代理人：

徐金国;吴启超

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-02-28	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/02申请日:20230719
2025-02-11	公开	公开

共 50 条

[1]

一种改善光刻胶线条边缘粗糙度的方法 [P].

许开东 .

中国专利 :CN107527797B ,2017-12-29

[2]

改善光刻胶表面粗糙度的方法 [P].

成智国 ;

耿文练 .

中国专利 :CN109062010A ,2018-12-21

[3]

一种具有低边缘粗糙度的ArF光刻胶 [P].

马潇 ;

陈鹏 ;

卢汉林 ;

夏力 ;

顾大公 ;

岳力挽 ;

张宇 ;

陈阳 ;

许从应 ;

毛智彪 ;

周浩杰 .

中国专利 :CN114326305A ,2022-04-12

[4]

降低电子束光刻时光刻胶粗糙度的方法 [P].

孟令款 ;

贺晓彬 ;

李春龙 .

中国专利 :CN103676491A ,2014-03-26

[5]

改善半导体工艺中光刻图案线条边缘粗糙度的方法 [P].

李亮 ;

沈忆华 ;

涂火金 ;

宋化龙 ;

史运泽 .

中国专利 :CN102136415B ,2011-07-27

[6]

线边缘粗糙度控制 [P].

Y·蔡 ;

H·H·朱 ;

S·李 ;

S·S·康 .

中国专利 :CN101027759A ,2007-08-29

[7]

经由步长更改的线边缘粗糙度降低 [P].

托马斯·L·莱蒂格 ;

约瑟夫·约翰逊 ;

克里斯多弗·丹尼斯·本彻 .

中国专利 :CN108351599A ,2018-07-31

[8]

降低线条粗糙度的光刻方法 [P].

孟令款 ;

贺晓彬 ;

李春龙 .

中国专利 :CN103777466A ,2014-05-07

[9]

一种低边缘粗糙度的ArF光刻胶树脂及其制备方法 [P].

尹航 ;

白千慧 ;

李培源 ;

毛智彪 ;

许从应 .

中国专利 :CN119775481A ,2025-04-08

[10]

减小光刻胶图形线宽粗糙度的方法 [P].

张海洋 ;

张城龙 .

中国专利 :CN104345568A ,2015-02-11

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