线边缘粗糙度控制

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200580013946.0

申请日：

2005-03-02

公开(公告)号：

CN101027759A

公开(公告)日：

2007-08-29

发明(设计)人：

Y·蔡 H·H·朱 S·李 S·S·康

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

H01L21311

IPC分类号：

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

杨凯;刘杰

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-10-24	实质审查的生效	实质审查的生效
2007-08-29	公开	公开
2009-07-15	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回

共 50 条

[1]

边缘粗糙度减小 [P].

金艳莎 ;

谭忠魁 ;

崔麟 ;

符谦 ;

马丁·沈 .

中国专利 :CN109216160A ,2019-01-15

[2]

边缘粗糙度减小 [P].

金艳莎 ;

谭忠魁 ;

崔麟 ;

符谦 ;

马丁·沈 .

美国专利 :CN109216160B ,2024-01-30

[3]

使线宽粗糙度和线边缘粗糙度最小化的关键尺寸修整方法 [P].

安热利克·D·雷利 ;

苏巴迪普·卡尔 .

中国专利 :CN110444475A ,2019-11-12

[4]

两步骤植入以改善线边缘粗糙度与线宽粗糙度 [P].

约翰·哈塔拉 ;

戴辉雄 .

美国专利 :CN120303771A ,2025-07-11

[5]

经由步长更改的线边缘粗糙度降低 [P].

托马斯·L·莱蒂格 ;

约瑟夫·约翰逊 ;

克里斯多弗·丹尼斯·本彻 .

中国专利 :CN108351599A ,2018-07-31

[6]

满足线边缘粗糙度及其他集成目的的等离子体处理方法 [P].

文·梁 ;

阿基特若·高 .

中国专利 :CN108780738A ,2018-11-09

[7]

降低EUV光刻胶图案的线边缘粗糙度的方法 [P].

王新科 ;

沈泽青 ;

苏米特·辛格·罗伊 ;

阿卜希吉特·巴苏·马尔利克 ;

巴斯卡尔·乔蒂·布雅 ;

唐杰丛 ;

约翰·苏迪约诺 ;

马克·萨利 .

美国专利 :CN119422226A ,2025-02-11

[8]

利用光子辅助等离子体工艺改善线边缘粗糙度 [P].

谭忠魁 ;

徐晴 ;

傅乾 ;

桑军·帕克 .

中国专利 :CN107492512A ,2017-12-19

[9]

一种刻蚀沟槽及通孔线边缘粗糙度优化方法 [P].

陈敏腾 ;

杨秀静 .

中国专利 :CN120164791A ,2025-06-17

[10]

降低线边缘粗糙度的半导体结构的制造方法 [P].

吴常明 ;

陈逸男 ;

刘献文 .

中国专利 :CN103021819A ,2013-04-03

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