满足线边缘粗糙度及其他集成目的的等离子体处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201780013040.1

申请日：

2017-01-25

公开(公告)号：

CN108780738A

公开(公告)日：

2018-11-09

发明(设计)人：

文·梁阿基特若·高

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L21027

IPC分类号：

H01L213065 H01L2102

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

唐京桥;姜婷

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-01-29	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/027 申请日:20170125
2018-11-09	公开	公开

共 50 条

[1]

利用光子辅助等离子体工艺改善线边缘粗糙度 [P].

谭忠魁 ;

徐晴 ;

傅乾 ;

桑军·帕克 .

中国专利 :CN107492512A ,2017-12-19

[2]

使线宽粗糙度和线边缘粗糙度最小化的关键尺寸修整方法 [P].

安热利克·D·雷利 ;

苏巴迪普·卡尔 .

中国专利 :CN110444475A ,2019-11-12

[3]

具有等离子体处理边缘的玻璃制品、等离子体处理边缘的方法和执行方法的系统 [P].

周立维 ;

冯江蔚 ;

郭冠廷 ;

李民禹 ;

梁智玮 ;

B·W·雷丁 ;

邓轩宇 ;

王丙鹏 ;

赵君婕 .

美国专利 :CN118108429A ,2024-05-31

[4]

用于等离子体处理的方法 [P].

宋杰宏 ;

马修·斯普勒 ;

迈克尔·S·考克斯 ;

马丁·杰伊·西芒斯 ;

埃米尔·奥－巴亚缇 ;

金博宏 ;

海彻姆·马萨德 .

中国专利 :CN101102637A ,2008-01-09

[5]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

原田彰俊 ;

林彦廷 ;

陈智轩 ;

谢如嘉 ;

米田滋 .

中国专利 :CN104603917B ,2015-05-06

[6]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

星直嗣 ;

大石哲也 ;

东堤慎司 .

中国专利 :CN109216182A ,2019-01-15

[7]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

置田尚吾 ;

水野文二 ;

奥村智洋 .

中国专利 :CN105390360A ,2016-03-09

[8]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

安藤阳二 ;

小野哲郎 ;

臼井建人 .

中国专利 :CN103811249B ,2014-05-21

[9]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

和田敏治 ;

伊藤骏 .

日本专利 :CN120660177A ,2025-09-16

[10]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

谷川雄洋 ;

河田进二 ;

瀬本贵之 .

中国专利 :CN109103089A ,2018-12-28

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