等离子体处理方法和等离子体处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810644337.4

申请日：

2018-06-21

公开(公告)号：

CN109103089A

公开(公告)日：

2018-12-28

发明(设计)人：

谷川雄洋河田进二瀬本贵之

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L213065

IPC分类号：

H01J3732

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-12-28	公开	公开
2019-01-22	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/3065 申请日:20180621

共 50 条

[1]

等离子体处理用气体、等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P].

末田一行 ;

笹仓昌浩 ;

山本凌音 ;

角川舞 .

中国专利 :CN115699264A ,2023-02-03

[2]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

原田彰俊 ;

林彦廷 ;

陈智轩 ;

谢如嘉 ;

米田滋 .

中国专利 :CN104603917B ,2015-05-06

[3]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

西野雅 ;

真壁正嗣 ;

长山将之 ;

半田达也 ;

绿川良太郎 ;

小林启悟 ;

仁矢铁也 .

中国专利 :CN103959447A ,2014-07-30

[4]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

星直嗣 ;

大石哲也 ;

东堤慎司 .

中国专利 :CN109216182A ,2019-01-15

[5]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

中根由太 ;

熊仓翔 .

日本专利 :CN119137713A ,2024-12-13

[6]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

田原慈 .

中国专利 :CN100375247C ,2005-09-07

[7]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

平山祐介 ;

宫川正章 .

中国专利 :CN106463389B ,2017-02-22

[8]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

味上俊一 .

中国专利 :CN104103580B ,2014-10-15

[9]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

矢幡将二郎 ;

佐藤徹治 .

中国专利 :CN113345787A ,2021-09-03

[10]

等离子体处理方法和等离子体处理装置 [P].

岸宏树 ;

徐智洙 .

中国专利 :CN106920733B ,2017-07-04

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