硅片研磨和清洗装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201721880326.3

申请日：

2017-12-28

公开(公告)号：

CN207710541U

公开(公告)日：

2018-08-10

发明(设计)人：

何昆哲华波赵厚莹

申请人：

申请人地址：

201306 上海市浦东新区泥城镇云水路1000号

IPC主分类号：

B24B3708

IPC分类号：

B24B3734

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人：

罗磊

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-08-10	授权	授权

共 50 条

[1]

硅片清洗装置和硅片研磨设备 [P].

白皓 ;

王辉 .

中国专利 :CN223587870U ,2025-11-25

[2]

硅片清洗装置及硅片清洗设备 [P].

朱伟 ;

谢宇宽 ;

季建 .

中国专利 :CN221657290U ,2024-09-06

[3]

硅片清洗装置 [P].

曹士妥 ;

霍志强 .

中国专利 :CN204107915U ,2015-01-21

[4]

硅片清洗装置 [P].

李兆颖 ;

周来平 ;

孟洁 .

中国专利 :CN217544554U ,2022-10-04

[5]

硅片清洗装置 [P].

陈五奎 ;

刘强 ;

徐文州 ;

冯加保 ;

耿荣军 .

中国专利 :CN206535800U ,2017-10-03

[6]

硅片清洗装置 [P].

姬丹丹 ;

张豹 ;

王锐廷 ;

吴仪 .

中国专利 :CN204216011U ,2015-03-18

[7]

硅片清洗装置 [P].

张杰 ;

陆继波 ;

邹珉 ;

袁为进 .

中国专利 :CN222440545U ,2025-02-07

[8]

硅片清洗装置 [P].

姜涛 ;

李世磊 .

中国专利 :CN212093489U ,2020-12-08

[9]

硅片清洗装置 [P].

吕海强 ;

郑安 ;

黄杨康 .

中国专利 :CN208195042U ,2018-12-07

[10]

硅片清洗装置 [P].

任金枝 ;

左国军 ;

周董娟 ;

申斌 ;

成旭 ;

谈丽文 .

中国专利 :CN222678966U ,2025-03-28

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