研磨抛光成套装备、研磨抛光方法

被引：0

申请号：

CN202210164928.8

申请日：

2022-02-22

公开(公告)号：

CN114523340A

公开(公告)日：

2022-05-24

发明(设计)人：

王序进赵泽佳郭登极刘峥熊晶

申请人：

申请人地址：

518000 广东省深圳市南山区南海大道3688号

IPC主分类号：

B24B100

IPC分类号：

B24B3700 B24B3711 B24B3734

代理机构：

广州三环专利商标代理有限公司 44202

代理人：

王勤

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-06-10	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 1/00 申请日:20220222
2022-05-24	公开	公开
2023-02-14	授权	授权

共 50 条

[1]

研磨抛光装置和研磨抛光方法 [P].

毛柠 .

中国专利 :CN117943953A ,2024-04-30

[2]

研磨抛光装置及其研磨抛光方法 [P].

吕育廷 ;

杨忠义 ;

陈再发 ;

许富铨 ;

庄殷 .

中国专利 :CN102485423A ,2012-06-06

[3]

研磨抛光设备和研磨抛光方法 [P].

周小辉 ;

谢庆丰 .

中国专利 :CN108188916A ,2018-06-22

[4]

蓝宝石晶片研磨抛光方法 [P].

朱联烽 ;

田多胜 .

中国专利 :CN104999365B ,2015-10-28

[5]

研磨抛光模拟方法、系统及研磨抛光工艺转移方法 [P].

罗元玠 ;

王右勋 ;

林沛群 ;

施志轩 ;

黄甦 .

中国专利 :CN113618621A ,2021-11-09

[6]

研磨抛光夹具及研磨抛光装置 [P].

龙登武 ;

俞江 .

中国专利 :CN204546250U ,2015-08-12

[7]

一种研磨抛光方法 [P].

刘高平 .

中国专利 :CN103419118B ,2013-12-04

[8]

一种用于铍材镜体研磨抛光的研磨平板及研磨抛光方法 [P].

王长峰 ;

王长青 ;

曹勇 ;

黎一凡 ;

李冰远 ;

杨光 ;

齐岩 ;

梁刚 ;

赵明宇 .

中国专利 :CN113829176A ,2021-12-24

[9]

研磨抛光装置及研磨抛光系统 [P].

周群飞 ;

王缔 .

中国专利 :CN208663456U ,2019-03-29

[10]

研磨抛光装置及研磨抛光系统 [P].

周群飞 ;

王缔 .

中国专利 :CN108608313B ,2024-11-01

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