一种用于铍材镜体研磨抛光的研磨平板及研磨抛光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202111015122.4

申请日：

2021-08-31

公开(公告)号：

CN113829176A

公开(公告)日：

2021-12-24

发明(设计)人：

王长峰王长青曹勇黎一凡李冰远杨光齐岩梁刚赵明宇

申请人：

申请人地址：

100854 北京市海淀区北京142信箱403分箱

IPC主分类号：

B24B1301

IPC分类号：

B24B100 B24B5502

代理机构：

中国航天科技专利中心 11009

代理人：

孙建玲

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-01-11	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 13/01 申请日:20210831
2021-12-24	公开	公开

共 50 条

[1]

一种研磨抛光装置及研磨抛光方法 [P].

刘高平 .

中国专利 :CN105499706A ,2016-04-20

[2]

一种研磨抛光设备及研磨抛光方法 [P].

高令 ;

谭志强 ;

李叶明 ;

张红超 ;

郑云 ;

黄俊达 .

中国专利 :CN118528166A ,2024-08-23

[3]

一种研磨抛光设备 [P].

何特 ;

张余川 ;

张晓微 ;

孙钧 ;

曹亦兵 .

中国专利 :CN206937060U ,2018-01-30

[4]

一种研磨抛光方法 [P].

刘高平 .

中国专利 :CN103419118B ,2013-12-04

[5]

一种用于研磨抛光的研磨液 [P].

李东 .

中国专利 :CN103555207A ,2014-02-05

[6]

一种晶圆研磨抛光设备及研磨抛光方法 [P].

刘少华 ;

郑向光 ;

赵伟帅 ;

李达 ;

李青璇 ;

刘凯辉 .

中国专利 :CN118700014A ,2024-09-27

[7]

一种化学研磨抛光液及研磨抛光方法 [P].

何友余 ;

吴育祥 ;

李德荣 .

中国专利 :CN108624237B ,2018-10-09

[8]

一种用于研磨抛光设备的修整环及研磨抛光设备 [P].

苗运梁 ;

王金鹏 ;

刘先兵 .

中国专利 :CN212145965U ,2020-12-15

[9]

一种用于研磨抛光设备的修整环及研磨抛光设备 [P].

苗运梁 ;

王金鹏 ;

刘先兵 .

中国专利 :CN111438631A ,2020-07-24

[10]

一种用于异形曲面研磨抛光的自动研磨抛光设备 [P].

潘涛 .

中国专利 :CN215789071U ,2022-02-11

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