一种用于研磨抛光的研磨液

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310568471.8

申请日：

2013-11-15

公开(公告)号：

CN103555207A

公开(公告)日：

2014-02-05

发明(设计)人：

李东

申请人：

申请人地址：

100023 北京市大兴区亦庄经济技术开发区经海三路17号

IPC主分类号：

C09G102

IPC分类号：

C09K314

代理机构：

北京中创阳光知识产权代理有限责任公司 11003

代理人：

尹振启

法律状态：

发明专利申请公布后的驳回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-12-30	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101726146893 IPC(主分类):H01L 21/312 专利申请号:2013105684718 申请公布日:20140205
2014-02-05	公开	公开
2014-03-12	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101576325616 IPC(主分类):C09G 1/02 专利申请号:2013105684718 申请日:20131115

共 50 条

[1]

一种化学研磨抛光液及研磨抛光方法 [P].

何友余 ;

吴育祥 ;

李德荣 .

中国专利 :CN108624237B ,2018-10-09

[2]

一种用于异形曲面研磨抛光的自动研磨抛光设备 [P].

潘涛 .

中国专利 :CN215789071U ,2022-02-11

[3]

一种非金属研磨抛光液 [P].

谢绍光 .

中国专利 :CN106905856A ,2017-06-30

[4]

一种用于研磨抛光设备的供液装置 [P].

陈帅 ;

曲迪 ;

白国人 ;

王磊 ;

陈墨 ;

李淼 .

中国专利 :CN209919660U ,2020-01-10

[5]

一种用于研磨抛光液的混合装置 [P].

尹宏锐 ;

夏杰 ;

王凤江 ;

陶卫健 ;

王大鹏 .

中国专利 :CN214810211U ,2021-11-23

[6]

一种用于研磨抛光设备的修整环及研磨抛光设备 [P].

苗运梁 ;

王金鹏 ;

刘先兵 .

中国专利 :CN212145965U ,2020-12-15

[7]

一种用于研磨抛光设备的修整环及研磨抛光设备 [P].

苗运梁 ;

王金鹏 ;

刘先兵 .

中国专利 :CN111438631A ,2020-07-24

[8]

用于微晶玻璃研磨抛光的抛光液 [P].

刘玉岭 ;

武晓玲 .

中国专利 :CN1858132A ,2006-11-08

[9]

一种用于铍材镜体研磨抛光的研磨平板及研磨抛光方法 [P].

王长峰 ;

王长青 ;

曹勇 ;

黎一凡 ;

李冰远 ;

杨光 ;

齐岩 ;

梁刚 ;

赵明宇 .

中国专利 :CN113829176A ,2021-12-24

[10]

一种研磨抛光装置及研磨抛光方法 [P].

刘高平 .

中国专利 :CN105499706A ,2016-04-20

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