一种双面无掩模光刻系统

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201821616876.9

申请日：

2018-09-30

公开(公告)号：

CN209070304U

公开(公告)日：

2019-07-05

发明(设计)人：

李源徐珍华韩建崴

申请人：

申请人地址：

528437 广东省中山市火炬开发区明珠路3号之一

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

北京汇智胜知识产权代理事务所(普通合伙) 11346

代理人：

石辉

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-07-05	授权	授权

共 50 条

[1]

一种新型高功率高速无掩模光刻系统 [P].

曲鲁杰 ;

梅文辉 ;

杜卫冲 .

中国专利 :CN205827054U ,2016-12-21

[2]

一种新型高功率高速无掩模光刻系统 [P].

曲鲁杰 ;

梅文辉 ;

杜卫冲 .

中国专利 :CN105974748A ,2016-09-28

[3]

一种无掩模光刻系统 [P].

阮立锋 ;

杨三 ;

汪孝军 .

中国专利 :CN207965474U ,2018-10-12

[4]

一种掩模板和光刻系统 [P].

刘亮亮 ;

闵天圭 ;

康峰 ;

张朝波 ;

绰洛鹏 ;

唐亮 ;

白妮妮 ;

韩帅 .

中国专利 :CN205405061U ,2016-07-27

[5]

无掩模光刻系统及其光刻方法 [P].

张鹏鹏 ;

吴震 ;

张琼 ;

程攀攀 ;

朱旭杰 ;

范长江 .

中国专利 :CN118363277A ,2024-07-19

[6]

无掩模光刻系统及其光刻方法 [P].

张鹏鹏 ;

吴震 ;

张琼 ;

程攀攀 ;

朱旭杰 ;

范长江 .

中国专利 :CN118363277B ,2024-12-31

[7]

一种无掩模光刻系统及其对应的光刻方法 [P].

邱志勇 ;

常朔 .

中国专利 :CN113721429A ,2021-11-30

[8]

一种双光束无掩模光刻系统 [P].

陈冠楠 ;

梅文辉 .

中国专利 :CN112987506B ,2021-06-18

[9]

一种无掩模光刻对准系统 [P].

马平 ;

李艳丽 ;

陈铭勇 ;

陈磊 ;

胡陶 .

中国专利 :CN102193339A ,2011-09-21

[10]

一种无掩模光刻机基座 [P].

王运钢 ;

章广飞 ;

薛业保 .

中国专利 :CN221039783U ,2024-05-28

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