表面处理装置及方法

被引：0

申请号：

CN202111283616.0

申请日：

2021-11-01

公开(公告)号：

CN114808449A

公开(公告)日：

2022-07-29

发明(设计)人：

杜怡君邓禹谷琛周军樊钰周松松吕晓露方泳皓

申请人：

申请人地址：

100192 北京市海淀区清河小营东路15号

IPC主分类号：

D06M1418

IPC分类号：

代理机构：

北京工信联合知识产权代理有限公司 11266

代理人：

刘爱丽

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-08-16	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):D06M 14/18 申请日:20211101
2022-07-29	公开	公开

共 50 条

[1]

材料表面处理装置及方法 [P].

杜怡君 ;

邓禹 ;

周松松 ;

谷琛 ;

周军 ;

樊钰 ;

方泳皓 ;

吕晓露 .

中国专利 :CN114892400A ,2022-08-12

[2]

表面处理装置 [P].

杜怡君 ;

邓禹 ;

谷琛 ;

周军 ;

樊钰 ;

周松松 ;

吕晓露 ;

方泳皓 .

中国专利 :CN216338714U ,2022-04-19

[3]

材料表面处理装置 [P].

杜怡君 ;

邓禹 ;

周松松 ;

谷琛 ;

周军 ;

樊钰 ;

方泳皓 ;

吕晓露 .

中国专利 :CN216338713U ,2022-04-19

[4]

表面处理装置及表面处理方法 [P].

小久保光典 ;

福山聪 ;

栗原义明 ;

难波武志 .

日本专利 :CN116324012B ,2025-05-27

[5]

表面处理装置 [P].

难波武志 ;

深田和宏 ;

栗原义明 .

日本专利 :CN118715337A ,2024-09-27

[6]

等离子表面处理装置及方法 [P].

朴善淳 ;

柳孝烈 .

中国专利 :CN102395691B ,2012-03-28

[7]

等离子处理装置与基板表面处理装置 [P].

村山浩二 ;

藤本浩树 .

中国专利 :CN1638598A ,2005-07-13

[8]

表面处理装置及表面处理方法 [P].

长田道男 ;

北田良二 ;

广田敦司 .

中国专利 :CN100436096C ,2003-05-28

[9]

表面处理装置及表面处理方法 [P].

松野竹己 .

中国专利 :CN100360302C ,2004-09-22

[10]

表面处理装置及表面处理方法 [P].

三河宽明 ;

长安弘贡 ;

杉山茂广 ;

佐藤匠 ;

川崎耕平 ;

高木佑辅 .

中国专利 :CN109923241A ,2019-06-21

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