等离子处理装置与基板表面处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200410057976.9

申请日：

2004-08-27

公开(公告)号：

CN1638598A

公开(公告)日：

2005-07-13

发明(设计)人：

村山浩二藤本浩树

申请人：

申请人地址：

台湾省台南

IPC主分类号：

H05H100

IPC分类号：

H05B3310 H01L21306 H01L2130

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

杜日新

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2005-11-23	实质审查的生效	实质审查的生效
2005-07-13	公开	公开
2017-10-17	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H05H 1/00 申请日:20040827 授权公告日:20071107 终止日期:20160827
2007-11-07	授权	授权
2015-09-16	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101720916516 IPC(主分类):H05H 1/00 专利号:ZL2004100579769 变更事项:专利权人变更前:奇美电子股份有限公司变更后:奇美电子股份有限公司变更事项:地址变更前:中国台湾台南变更后:中国台湾台南变更事项:专利权人变更前:京都陶瓷株式会社变更后:京瓷株式会社

共 50 条

[1]

等离子处理装置 [P].

赵芝强 .

中国专利 :CN103107059A ,2013-05-15

[2]

等离子处理装置 [P].

赵芝强 .

中国专利 :CN203179834U ,2013-09-04

[3]

基板的表面处理方法以及等离子体处理装置 [P].

山崎正 ;

河西充 .

中国专利 :CN101439342A ,2009-05-27

[4]

基板的等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

宇井明生 .

中国专利 :CN101137269B ,2008-03-05

[5]

基板的等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

宇井明生 .

中国专利 :CN101137268A ,2008-03-05

[6]

基板的等离子处理装置 [P].

宇井明生 ;

市川尚志 ;

玉置直树 ;

林久贵 ;

小岛章弘 .

中国专利 :CN101277580B ,2008-10-01

[7]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

小口元树 ;

森崎昭生 ;

花田幸纪 .

中国专利 :CN101853763A ,2010-10-06

[8]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

小野寺直见 ;

乡右近清彦 ;

佐藤润 .

中国专利 :CN101877304B ,2010-11-03

[9]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

山泽阳平 ;

奥西直彦 ;

三泽裕文 ;

添田秀史 .

中国专利 :CN101853766A ,2010-10-06

[10]

等离子发射装置、等离子体处理装置 [P].

野口武史 ;

左国军 .

中国专利 :CN118263088A ,2024-06-28

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