等离子处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310046172.8

申请日：

2013-02-05

公开(公告)号：

CN103107059A

公开(公告)日：

2013-05-15

发明(设计)人：

赵芝强

申请人：

申请人地址：

519000 广东省珠海市南屏科技工业园屏西七路5号一楼

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

代理机构：

广州华进联合专利商标代理有限公司 44224

代理人：

曾旻辉;王朔

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-05-15	公开	公开
2015-09-30	授权	授权
2013-06-12	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101472130781 IPC(主分类):H01J 37/32 专利申请号:2013100461728 申请日:20130205

共 50 条

[1]

等离子处理装置 [P].

赵芝强 .

中国专利 :CN203179834U ,2013-09-04

[2]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

小野寺直见 ;

乡右近清彦 ;

佐藤润 .

中国专利 :CN101877304B ,2010-11-03

[3]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

小口元树 ;

森崎昭生 ;

花田幸纪 .

中国专利 :CN101853763A ,2010-10-06

[4]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

山泽阳平 ;

奥西直彦 ;

三泽裕文 ;

添田秀史 .

中国专利 :CN101853766A ,2010-10-06

[5]

等离子处理装置 [P].

福岛讲平 ;

高桥俊树 ;

松浦广行 ;

本山丰 ;

山本和弥 .

中国专利 :CN103354202B ,2013-10-16

[6]

等离子处理装置 [P].

福岛讲平 ;

高桥俊树 ;

松浦广行 ;

本山丰 ;

山本和弥 .

中国专利 :CN101819918A ,2010-09-01

[7]

等离子处理 [P].

费利佩·伊萨 ;

亚历山大·R·P·赖特 ;

亚历山大·H·肖 ;

吉尔伯特·沙马 .

中国专利 :CN114051768A ,2022-02-15

[8]

一种等离子处理装置，处理方法 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN108831817A ,2018-11-16

[9]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

徐浩 ;

内田丈滋 ;

中元茂 ;

福地功祐 ;

井上智己 .

中国专利 :CN110752136A ,2020-02-04

[10]

等离子处理方法以及等离子处理装置 [P].

松井都 ;

桑原谦一 ;

臼井建人 ;

小林浩之 .

中国专利 :CN111801775A ,2020-10-20

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