等离子处理

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202080044864.7

申请日：

2020-06-21

公开(公告)号：

CN114051768A

公开(公告)日：

2022-02-15

发明(设计)人：

费利佩·伊萨亚历山大·R·P·赖特亚历山大·H·肖吉尔伯特·沙马

申请人：

申请人地址：

英国莱斯特郡

IPC主分类号：

H05H124

IPC分类号：

A01C100 A01C108 A61L214 A61L220 A61L10110 A61L10122 A61L10102

代理机构：

北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258

代理人：

孙敏

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-07-08	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H05H 1/24 申请日:20200621
2022-02-15	公开	公开

共 50 条

[1]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

佐藤阳介 ;

宇井明生 ;

林久贵 .

中国专利 :CN105280489A ,2016-01-27

[2]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

舟久保隆男 ;

芳贺博文 ;

狐塚慎一 ;

小澤亘 ;

坂本晃浩 ;

谷口直树 ;

辻本宏 ;

大野久美子 .

中国专利 :CN105225913B ,2016-01-06

[3]

等离子体处理装置 [P].

金春植 .

中国专利 :CN101052265A ,2007-10-10

[4]

等离子体处理装置及等离子处理用反应容器的结构 [P].

吉村俊秋 ;

箕轮裕之 ;

石龙基 .

中国专利 :CN109156074B ,2019-01-04

[5]

等离子处理装置 [P].

安德鲁·西蒙·霍尔·布鲁克斯 ;

加雷思·亨尼根 ;

吉安弗兰可·阿拉斯塔 ;

希奥布翰·玛丽·伍拉德 ;

理查德·安东尼·莱昂纳 ;

沙林达·维克拉姆·辛格 .

中国专利 :CN110914951A ,2020-03-24

[6]

等离子发射装置、等离子体处理装置 [P].

野口武史 ;

左国军 .

中国专利 :CN118263088A ,2024-06-28

[7]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

小野寺直见 ;

乡右近清彦 ;

佐藤润 .

中国专利 :CN101877304B ,2010-11-03

[8]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

小口元树 ;

森崎昭生 ;

花田幸纪 .

中国专利 :CN101853763A ,2010-10-06

[9]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

山泽阳平 ;

奥西直彦 ;

三泽裕文 ;

添田秀史 .

中国专利 :CN101853766A ,2010-10-06

[10]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

吹野康彦 ;

丸山智久 .

中国专利 :CN103839748A ,2014-06-04

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