等离子处理装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201880040149.9
申请日
2018-06-13
公开(公告)号
CN110914951A
公开(公告)日
2020-03-24
发明(设计)人
安德鲁·西蒙·霍尔·布鲁克斯 加雷思·亨尼根 吉安弗兰可·阿拉斯塔 希奥布翰·玛丽·伍拉德 理查德·安东尼·莱昂纳 沙林达·维克拉姆·辛格
申请人
申请人地址
英国伦敦
IPC主分类号
H01J3732
IPC分类号
C23C16455
代理机构
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205
代理人
杨文娟;臧建明
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
等离子处理 [P]. 
费利佩·伊萨 ;
亚历山大·R·P·赖特 ;
亚历山大·H·肖 ;
吉尔伯特·沙马 .
中国专利 :CN114051768A ,2022-02-15
[2]
等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P]. 
吹野康彦 ;
丸山智久 .
中国专利 :CN103839748A ,2014-06-04
[3]
等离子体处理装置 [P]. 
保罗·贝内特 .
中国专利 :CN107146754A ,2017-09-08
[4]
等离子体处理装置 [P]. 
川又由雄 .
中国专利 :CN110872691A ,2020-03-10
[5]
等离子体处理装置 [P]. 
舆水地盐 ;
松土龙夫 .
中国专利 :CN107801289A ,2018-03-13
[6]
等离子体处理装置 [P]. 
西村荣一 ;
大秦充敬 .
中国专利 :CN107078049A ,2017-08-18
[7]
等离子体处理装置 [P]. 
何政 ;
唐怡 .
中国专利 :CN115332031A ,2022-11-11
[8]
等离子体处理装置 [P]. 
翁志强 ;
蔡陈德 ;
丁嘉仁 ;
徐瑞美 ;
李祐升 ;
刘志宏 .
中国专利 :CN110600355B ,2019-12-20
[9]
等离子体源和等离子体处理装置 [P]. 
池田太郎 ;
长田勇辉 ;
宫下大幸 ;
小野田裕之 ;
川上聪 .
中国专利 :CN115696713A ,2023-02-03
[10]
等离子发射装置、等离子体处理装置 [P]. 
野口武史 ;
左国军 .
中国专利 :CN118263088A ,2024-06-28