等离子体处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200710087383.0

申请日：

2007-04-03

公开(公告)号：

CN101052265A

公开(公告)日：

2007-10-10

发明(设计)人：

金春植

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道

IPC主分类号：

H05H124

IPC分类号：

代理机构：

北京康信知识产权代理有限责任公司

代理人：

章社杲;吴贵明

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-08-31	授权	授权
2007-12-05	实质审查的生效	实质审查的生效
2007-10-10	公开	公开
2017-05-24	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101721401628 IPC(主分类):H05H 1/24 专利号:ZL2007100873830 申请日:20070403 授权公告日:20110831 终止日期:20160403

共 50 条

[1]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

佐藤阳介 ;

宇井明生 ;

林久贵 .

中国专利 :CN105280489A ,2016-01-27

[2]

等离子体处理装置以及等离子体处理方法 [P].

舟久保隆男 ;

芳贺博文 ;

狐塚慎一 ;

小澤亘 ;

坂本晃浩 ;

谷口直树 ;

辻本宏 ;

大野久美子 .

中国专利 :CN105225913B ,2016-01-06

[3]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

奥村智洋 ;

中山一郎 ;

川浦广 ;

幸本彻哉 .

中国专利 :CN102387653A ,2012-03-21

[4]

等离子体处理装置、等离子体处理方法 [P].

舆水地盐 .

中国专利 :CN101908460A ,2010-12-08

[5]

等离子体处理装置、等离子体处理方法 [P].

石川拓 ;

户部康弘 .

中国专利 :CN101622698B ,2010-01-06

[6]

等离子体处理装置、等离子体处理方法 [P].

大木达也 ;

小泽亘 ;

深泽公博 ;

金谷和博 .

中国专利 :CN102737945B ,2012-10-17

[7]

等离子发射装置、等离子体处理装置 [P].

野口武史 ;

左国军 .

中国专利 :CN118263088A ,2024-06-28

[8]

等离子体蚀刻方法、等离子体蚀刻装置、等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P].

森口尚树 .

中国专利 :CN105103274A ,2015-11-25

[9]

等离子体处理用气体、等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P].

末田一行 ;

笹仓昌浩 ;

山本凌音 ;

角川舞 .

中国专利 :CN115699264A ,2023-02-03

[10]

等离子体处理方法、等离子体处理装置以及等离子体处理系统 [P].

米泽隆宏 ;

熊仓翔 .

中国专利 :CN115513044A ,2022-12-23

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