等离子处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201010102641.X

申请日：

2010-01-22

公开(公告)号：

CN101819918A

公开(公告)日：

2010-09-01

发明(设计)人：

福岛讲平高桥俊树松浦广行本山丰山本和弥

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L2100

IPC分类号：

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;张会华

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-09-01	公开	公开
2011-09-21	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101108318512 IPC(主分类):H01L 21/00 专利申请号:201010102641X 申请日:20100122
2014-03-12	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子处理装置 [P].

福岛讲平 ;

高桥俊树 ;

松浦广行 ;

本山丰 ;

山本和弥 .

中国专利 :CN103354202B ,2013-10-16

[2]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

小野寺直见 ;

乡右近清彦 ;

佐藤润 .

中国专利 :CN101877304B ,2010-11-03

[3]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

小口元树 ;

森崎昭生 ;

花田幸纪 .

中国专利 :CN101853763A ,2010-10-06

[4]

等离子体处理装置及等离子体处理方法 [P].

佐藤阳介 ;

宇井明生 ;

林久贵 .

中国专利 :CN105280489A ,2016-01-27

[5]

等离子处理装置 [P].

卢克·约瑟夫·辛贝勒 ;

园田靖 ;

植村崇 ;

市丸朋祥 ;

佐佐木惇也 .

中国专利 :CN109935512A ,2019-06-25

[6]

等离子体处理装置 [P].

松浦广行 ;

高桥俊树 ;

福岛讲平 .

中国专利 :CN102163530A ,2011-08-24

[7]

等离子体处理装置 [P].

松浦广行 ;

高桥俊树 ;

福岛讲平 .

中国专利 :CN101378007A ,2009-03-04

[8]

等离子处理装置和等离子处理方法 [P].

桧森慎司 .

中国专利 :CN101990353A ,2011-03-23

[9]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

市川贵大 ;

弘中嘉之 ;

大越康雄 .

日本专利 :CN115004864B ,2025-10-14

[10]

等离子处理装置以及等离子处理方法 [P].

田村仁 ;

森裕晖 ;

礒本真维 .

日本专利 :CN119366267A ,2025-01-24

← 1 2 3 4 5 →