用于光束控制的等离子体表面散射元件和超表面

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980029101.2

申请日：

2019-03-19

公开(公告)号：

CN112042059A

公开(公告)日：

2020-12-04

发明(设计)人：

格列布·M·阿克塞尔罗德杨元穆帕特里克·博文

申请人：

申请人地址：

美国华盛顿州

IPC主分类号：

H01Q1502

IPC分类号：

H01Q1514

代理机构：

上海胜康律师事务所 31263

代理人：

樊英如;张华

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-12-04	公开	公开
2021-03-26	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01Q 15/02 申请日:20190319

共 50 条

[1]

用于超表面调谐的等离子体色散效应 [P].

A·贾殷 ;

Z·詹德瑞克 ;

D·莫尔 ;

K·A·戈麦斯 ;

K·苏布拉马尼亚姆 .

中国专利 :CN112993758A ,2021-06-18

[2]

用于超表面调谐的等离子体色散效应 [P].

A·贾殷 ;

Z·詹德瑞克 ;

D·莫尔 ;

K·A·戈麦斯 ;

K·苏布拉马尼亚姆 .

美国专利 :CN112993758B ,2024-09-17

[3]

等离子体表面处理装置 [P].

吴海英 .

中国专利 :CN202519329U ,2012-11-07

[4]

等离子体表面处理设备 [P].

万良淏 ;

徐龙 ;

万京林 .

中国专利 :CN211238156U ,2020-08-11

[5]

等离子体表面清洗装置 [P].

陈彩刚 ;

夏芃 ;

施松林 ;

熊军 ;

刘古岩 .

中国专利 :CN101402095A ,2009-04-08

[6]

等离子体表面加工设备 [P].

川崎真一 ;

中武纯夫 ;

北畠裕也 ;

山嶋节男 ;

江口勇司 ;

安西纯一郎 ;

中野良宪 .

中国专利 :CN1811012A ,2006-08-02

[7]

低温等离子体表面处理装置 [P].

李昇勋 ;

金度根 .

中国专利 :CN210110703U ,2020-02-21

[8]

复合等离子体表面处理装置 [P].

田修波 ;

崔江涛 ;

杨士勤 .

中国专利 :CN1603466A ,2005-04-06

[9]

等离子体表面处理设备和等离子体设备腔体结构 [P].

唐玄玄 ;

彭帆 .

中国专利 :CN107424897B ,2017-12-01

[10]

用于大气等离子体表面处理的旋转喷枪 [P].

徐江霖 ;

朱槐渂 .

中国专利 :CN217363374U ,2022-09-02

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