等离子体表面加工设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200610005949.6

申请日：

2003-10-07

公开(公告)号：

CN1811012A

公开(公告)日：

2006-08-02

发明(设计)人：

川崎真一中武纯夫北畠裕也山嶋节男江口勇司安西纯一郎中野良宪

申请人：

申请人地址：

日本大阪

IPC主分类号：

C23C16513

IPC分类号：

H01L21205

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

陈平

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2006-09-27	实质审查的生效	实质审查的生效
2010-01-13	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回
2006-08-02	公开	公开

共 50 条

[1]

等离子体表面处理设备 [P].

万良淏 ;

徐龙 ;

万京林 .

中国专利 :CN211238156U ,2020-08-11

[2]

等离子体表面处理设备和等离子体设备腔体结构 [P].

唐玄玄 ;

彭帆 .

中国专利 :CN107424897B ,2017-12-01

[3]

等离子体表面处理装置 [P].

吴海英 .

中国专利 :CN202519329U ,2012-11-07

[4]

等离子体表面清洗装置 [P].

陈彩刚 ;

夏芃 ;

施松林 ;

熊军 ;

刘古岩 .

中国专利 :CN101402095A ,2009-04-08

[5]

等离子体表面处理方法及设备 [P].

佐伯登 .

中国专利 :CN1311717C ,2005-07-13

[6]

真空等离子体表面处理设备 [P].

刘善双 ;

毕学谦 ;

刘镇伟 .

中国专利 :CN203691734U ,2014-07-02

[7]

等离子体表面处理设备及方法 [P].

万良淏 ;

徐龙 ;

万京林 .

中国专利 :CN111161994A ,2020-05-15

[8]

等离子体表面处理设备及方法 [P].

万良淏 ;

徐龙 ;

万京林 .

中国专利 :CN111161994B ,2025-02-25

[9]

真空等离子体表面处理设备 [P].

刘善双 ;

毕学谦 ;

刘镇伟 .

中国专利 :CN203667694U ,2014-06-25

[10]

真空等离子体表面处理设备 [P].

刘善双 ;

毕学谦 ;

刘镇伟 .

中国专利 :CN103771183A ,2014-05-07

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