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等离子体表面处理设备及方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202010089609.6
申请日
:
2020-02-12
公开(公告)号
:
CN111161994B
公开(公告)日
:
2025-02-25
发明(设计)人
:
万良淏
徐龙
万京林
申请人
:
南京苏曼等离子科技有限公司
申请人地址
:
211178 江苏省南京市江宁区滨江开发区颐年路7号
IPC主分类号
:
H01J37/32
IPC分类号
:
代理机构
:
南京钟山专利代理有限公司 32252
代理人
:
金子娟
法律状态
:
授权
国省代码
:
河北省 衡水市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-02-25
授权
授权
共 50 条
[1]
等离子体表面处理设备及方法
[P].
万良淏
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0
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万良淏
;
徐龙
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徐龙
;
万京林
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万京林
.
中国专利
:CN111161994A
,2020-05-15
[2]
等离子体表面处理设备
[P].
万良淏
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万良淏
;
徐龙
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徐龙
;
万京林
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万京林
.
中国专利
:CN211238156U
,2020-08-11
[3]
真空等离子体表面处理设备
[P].
刘善双
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刘善双
;
毕学谦
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毕学谦
;
刘镇伟
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刘镇伟
.
中国专利
:CN203691734U
,2014-07-02
[4]
真空等离子体表面处理设备
[P].
刘善双
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刘善双
;
毕学谦
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毕学谦
;
刘镇伟
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刘镇伟
.
中国专利
:CN203667694U
,2014-06-25
[5]
真空等离子体表面处理设备
[P].
刘善双
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刘善双
;
毕学谦
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毕学谦
;
刘镇伟
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刘镇伟
.
中国专利
:CN103771183A
,2014-05-07
[6]
等离子体表面处理设备和等离子体设备腔体结构
[P].
唐玄玄
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唐玄玄
;
彭帆
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彭帆
.
中国专利
:CN107424897B
,2017-12-01
[7]
等离子体表面处理方法及设备
[P].
佐伯登
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佐伯登
.
中国专利
:CN1311717C
,2005-07-13
[8]
冷等离子体表面处理设备及其处理工艺
[P].
林立中
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0
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林立中
.
中国专利
:CN1050885A
,1991-04-24
[9]
射频多电容耦合等离子体表面处理设备
[P].
王守国
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0
王守国
.
中国专利
:CN200957197Y
,2007-10-10
[10]
射频多电容耦合等离子体表面处理设备
[P].
王守国
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王守国
.
中国专利
:CN1981876A
,2007-06-20
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