冷等离子体表面处理设备及其处理工艺

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专利类型
发明
申请号
CN89107909.2
申请日
1989-10-10
公开(公告)号
CN1050885A
公开(公告)日
1991-04-24
发明(设计)人
林立中
申请人
申请人地址
350002福建省福州市工业路西禅寺
IPC主分类号
C08J500
IPC分类号
D06M1000
代理机构
福建省专利服务中心
代理人
林捷华
法律状态
实质审查请求
国省代码
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共 50 条
[1]
等离子体表面处理设备 [P]. 
万良淏 ;
徐龙 ;
万京林 .
中国专利 :CN211238156U ,2020-08-11
[2]
真空等离子体表面处理设备 [P]. 
刘善双 ;
毕学谦 ;
刘镇伟 .
中国专利 :CN203691734U ,2014-07-02
[3]
等离子体表面处理设备及方法 [P]. 
万良淏 ;
徐龙 ;
万京林 .
中国专利 :CN111161994A ,2020-05-15
[4]
等离子体表面处理设备及方法 [P]. 
万良淏 ;
徐龙 ;
万京林 .
中国专利 :CN111161994B ,2025-02-25
[5]
真空等离子体表面处理设备 [P]. 
刘善双 ;
毕学谦 ;
刘镇伟 .
中国专利 :CN203667694U ,2014-06-25
[6]
真空等离子体表面处理设备 [P]. 
刘善双 ;
毕学谦 ;
刘镇伟 .
中国专利 :CN103771183A ,2014-05-07
[7]
射频多电容耦合等离子体表面处理设备 [P]. 
王守国 .
中国专利 :CN200957197Y ,2007-10-10
[8]
等离子体表面处理设备和等离子体设备腔体结构 [P]. 
唐玄玄 ;
彭帆 .
中国专利 :CN107424897B ,2017-12-01
[9]
射频多电容耦合等离子体表面处理设备 [P]. 
王守国 .
中国专利 :CN1981876A ,2007-06-20
[10]
纤维、织物及薄膜表面冷等离子体连续处理工艺 [P]. 
魏月贞 ;
张志谦 ;
张秀斌 ;
陶晓秋 .
中国专利 :CN87104425A ,1988-04-06