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一种直写式曝光机用台面清洁结构
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201922182846.2
申请日：
2019-12-09
公开(公告)号：
CN211454230U
公开(公告)日：
2020-09-08
发明(设计)人：
肖磊
申请人：
申请人地址：
200120 上海市浦东新区宣桥镇宣秋路210号E幢1楼北侧101室
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
代理机构：
北京华识知识产权代理有限公司 11530
代理人：
乔浩刚
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-09-08 | 授权 | 授权 |