一种去除晶圆表面光刻胶的方法

被引：0

申请号：

CN202210839466.5

申请日：

2022-07-15

公开(公告)号：

CN115047733A

公开(公告)日：

2022-09-13

发明(设计)人：

曹娟黄寓洋

申请人：

申请人地址：

215124 江苏省苏州市苏州工业园区星湖街218号生物纳米园A4楼109C单元

IPC主分类号：

G03F742

IPC分类号：

G03F720 G03F732

代理机构：

南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256

代理人：

何胜男

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-09-30	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/42 申请日:20220715
2022-09-13	公开	公开

共 50 条

[1]

用于去除晶圆表面光刻胶的环保型去胶剂 [P].

姚吉豪 ;

王江锋 ;

洪学平 .

中国专利 :CN111880384A ,2020-11-03

[2]

一种去除金属薄膜表面光刻胶的方法 [P].

王依依 ;

许杨 .

中国专利 :CN119181637A ,2024-12-24

[3]

一种半导体圆晶表面光刻胶涂布装置 [P].

李国平 .

中国专利 :CN118950393A ,2024-11-15

[4]

一种半导体圆晶表面光刻胶涂布装置 [P].

罗启祥 ;

高梁 .

中国专利 :CN120605843A ,2025-09-09

[5]

一种半导体圆晶表面光刻胶涂布装置 [P].

李国平 .

中国专利 :CN118950393B ,2024-12-31

[6]

一种去除碳基薄膜表面光刻胶的方法及应用 [P].

贾越辉 ;

龚欣 ;

彭沛 ;

王紫东 ;

田仲政 ;

任黎明 ;

张酣 ;

傅云义 .

中国专利 :CN105629682A ,2016-06-01

[7]

一种去除硅片表面光刻胶后的废液处理装置 [P].

陆雨 .

中国专利 :CN222015350U ,2024-11-15

[8]

一种剥离晶圆表面光刻胶的清洗机构及清洗花篮 [P].

郭娟 .

中国专利 :CN206849814U ,2018-01-05

[9]

ONO层表面光刻胶返工的改善方法 [P].

王佳兴 ;

刘政红 ;

陈昊瑜 ;

黄冠群 ;

齐瑞生 .

中国专利 :CN115050748A ,2022-09-13

[10]

一种去除刻蚀后基片表面光刻胶的方法及实施装置 [P].

梁万国 ;

李广伟 ;

张新汉 ;

陈怀熹 ;

缪龙 ;

冯新凯 ;

邹小林 .

中国专利 :CN106683983A ,2017-05-17

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