一种栅极结构及其制造方法

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专利类型
发明
申请号
CN201610363345.2
申请日
2016-05-26
公开(公告)号
CN107437501A
公开(公告)日
2017-12-05
发明(设计)人
马万里
申请人
申请人地址
100871 北京市海淀区成府路298号中关村方正大厦9层
IPC主分类号
H01L2128
IPC分类号
H01L29423
代理机构
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205
代理人
陶敏;刘芳
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
栅极结构及制造方法 [P]. 
陈瑜 ;
陈华伦 ;
罗啸 .
中国专利 :CN103579317A ,2014-02-12
[2]
栅极结构及其制造方法 [P]. 
玛库斯·穆勒 ;
彼诺伊特·弗洛米尼 .
中国专利 :CN101061586A ,2007-10-24
[3]
CMOS器件的栅极结构及其制造方法 [P]. 
陈瑜 ;
罗啸 ;
袁苑 .
中国专利 :CN104779273A ,2015-07-15
[4]
栅极结构及其制造方法 [P]. 
周鸣 .
中国专利 :CN102456724A ,2012-05-16
[5]
栅极结构及其制造方法 [P]. 
张海洋 ;
刘乒 ;
张世谋 ;
马擎天 .
中国专利 :CN101211769A ,2008-07-02
[6]
栅极结构及方法 [P]. 
陈瑜 ;
熊涛 ;
罗啸 .
中国专利 :CN102446734A ,2012-05-09
[7]
EEPROM的栅极制造方法及其制造的栅极 [P]. 
黄奕仙 ;
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中国专利 :CN102097386A ,2011-06-15
[8]
EEPROM的栅极制造方法及其制造的栅极 [P]. 
黄奕仙 ;
陈昊瑜 ;
徐向明 .
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[9]
栅极结构的制造方法 [P]. 
李秋德 .
中国专利 :CN101562131A ,2009-10-21
[10]
一种半导体器件的栅极结构及其制造方法 [P]. 
李学会 .
中国专利 :CN105140273A ,2015-12-09