共 50 条
[1]
[2]
[3]
[4]
[5]
[6]
[7]
[8]
[9]
[10]
一种硅片清洗装置
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN202021086568.7
申请日：
2020-06-13
公开(公告)号：
CN211980580U
公开(公告)日：
2020-11-20
发明(设计)人：
江水德
申请人：
申请人地址：
324000 浙江省衢州市开化县华埠镇银辉路9号
IPC主分类号：
H01L2167
IPC分类号：
代理机构：
北京劲创知识产权代理事务所(普通合伙) 11589
代理人：
张铁兰
法律状态：
授权
国省代码：
引用
下载
收藏
法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-11-20 | 授权 | 授权 |
| 2022-06-07 | 专利权的终止 | 未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20200613 授权公告日:20201120 终止日期:20210613 |