硅衬底片抛光方法和装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201710168988.6
申请日
2017-03-21
公开(公告)号
CN107030583A
公开(公告)日
2017-08-11
发明(设计)人
赵慧佳 姜博成 金军 路新春 沈攀
申请人
申请人地址
300350 天津市津南区海河科技园区聚兴道9号,8号楼
IPC主分类号
B24B2902
IPC分类号
代理机构
北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201
代理人
黄德海
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
衬底片加工方法 [P]. 
王波 ;
袁健飞 ;
凌龙 ;
王从学 .
中国专利 :CN119008377A ,2024-11-22
[2]
衬底抛光装置和抛光方法 [P]. 
中尾秀高 ;
川端康充 ;
胜间田好文 ;
小泽直树 ;
佐佐木达也 ;
重田厚 .
中国专利 :CN100481340C ,2005-09-21
[3]
一种蓝宝石衬底片抛光方法 [P]. 
徐永亮 ;
王辽阔 ;
施海斌 ;
柳瑞森 ;
吴鲁 ;
周波 .
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[4]
抛光衬底的方法和装置 [P]. 
福岛诚 ;
户川哲二 ;
齐藤真吾 ;
井上智视 .
中国专利 :CN111644976B ,2020-09-11
[5]
抛光衬底的方法和装置 [P]. 
福岛诚 ;
户川哲二 ;
齐藤真吾 ;
井上智视 .
中国专利 :CN105313002A ,2016-02-10
[6]
抛光衬底的方法和装置 [P]. 
福岛诚 ;
户川哲二 ;
齐藤真吾 ;
井上智视 .
中国专利 :CN102186627B ,2011-09-14
[7]
双面抛光机用衬底片夹具及其抛光方法 [P]. 
苗泽民 .
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[8]
抛光衬底的方法和装置 [P]. 
福岛诚 ;
户川哲二 ;
齐藤真吾 ;
井上智视 .
中国专利 :CN108515447A ,2018-09-11
[9]
抛光装置和衬底处理装置 [P]. 
本乡明久 ;
伊藤贤也 ;
山口健二 ;
中西正行 .
中国专利 :CN1914711A ,2007-02-14
[10]
图形硅衬底-硅锗薄膜复合结构及其制备方法和应用 [P]. 
张建军 ;
张结印 .
中国专利 :CN112382657B ,2021-02-19